言語の選択:

 
研究者検索 > 理工学部 教員紹介 

理工学部 教員紹介

研究者リスト >> 中野 武雄
 

中野 武雄

 
アバター
研究者氏名中野 武雄
 
ナカノ タケオ
URLhttp://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
所属成蹊大学
部署理工学部 物質生命理工学科
職名教授
学位博士(工学)(東京大学)
科研費研究者番号40237342
Twitter IDnakanot

プロフィール

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究キーワード

 
スパッタリング , 薄膜物性 , 薄膜プロセス

研究分野

 
  • 応用物理学・工学基礎 / 薄膜・表面界面物性 / 
  • 応用物理学・工学基礎 / 応用物理学一般 / 

学歴

 
 
 - 
1991年
東京大学 工学研究科 物理工学
 
 
 - 
1989年
東京大学 工学部 物理工学科
 

委員歴

 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  SP 部会 副部会長
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  電子ジャーナル委員会
 
2010年
 - 
2015年
電気学会  高密度金属プラズマ 調査専門委員会 幹事
 
2010年
 - 
現在
日本表面真空学会  教育委員会
 
2012年
 - 
2013年
日本真空学会  ISSP2013 実行委員長
 

受賞

 
2015年12月
日本真空学会 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞 反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
 
2013年
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 部会賞
 
1998年
第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
 

論文

 
Takeo Nakano, Tomoki Narita, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki
Jounal of Vacuum Science & Technology B   35(2) 022204   2017年3月   [査読有り]
In this study, an array of Mo cones for volcano-structured Spindt-type microelectron emitters were fabricated. A recently developed triode high power pulsed magnetron sputtering system was used to control the positive plasma potential and efficien...
Takeo Nakano, Yudai Saitou, Kei Oya
Surface and Coatings Technology   in press   2016年12月   [査読有り]
The growth of the target erosion profile (racetrack) in DC magnetron sputtering has been experimentally studied at a modest target power. Unbalanced magnetron sputtering (UBMS) and balanced magnetron sputtering (BMS) of a copper target were conduc...
Takeo Nakano, Yudai Saitou, Mariko Ueda, Noriaki Itamura, Shigeru Baba
Journal of the Vacuum Society of Japan   58 261-264   2015年7月   [査読有り]
© 2015, Vacuum Society of Japan. All rights reserved. The evolution of target "race track" erosion was evaluated experimentally during the conventional DC magnetron sputtering of metal targets with different Ar gas pressure environments. At gas pr...
Motoki Inoue, Takeo Nakano, Akihiro Yamasaki
Sustainable Materials and Technologies   3 14-16   2015年4月   [査読有り]
A novel material for recovery and separation of precious metal using grape-derived waste has been developed. The material was fabricated glutaraldehyde-crosslinked polyphenol, which derived from grape-derived wastes. Adsorption performance of prec...
Takeo Nakano, Ryo Yamazaki, Shigeru Baba
Journal of the Vacuum Society of Japan   57(4) 152-154   2014年4月   [査読有り]
The transport process of sputtered atoms has been studied experimentally through deposition rate measurement by changing the target-to-substrate (T-S) distance systematically along with the gas pressure and target element. The deposition rate show...

Misc

 
中野 武雄
Journal of the Vacuum Society of Japan   60(9) 339-340   2017年9月   [依頼有り]
High Power Impulse/Pulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS/HPPMS) process has several interesting aspects and is vigorously studied in recent years. In this preface, some trends in HiPIMS research are briefly reviewed: 1) the applicability of HiPIMS t...
中野 武雄
表面科学   38(5) 223-228   2017年5月   [査読有り][依頼有り]
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is a variant of sputtering deposition method in that pulsed power is applied to the sputtering target with low repetition frequency and small duty ratio. It produces high density plasma intermittently...
柴田 一, 中野 武雄, 馬場 茂
成蹊大学理工学研究報告   51(1) 1-5   2014年6月
Curing process of acrylic coating on a slide glass is monitored with a microtribometer. The microtribometer equips a hemispherical diamond tip of 16 μm in radius and the tip is reciprocated on the coating surface. The tip is mounted at a free end ...
Takeo Nakano
Journal of the Vacuum Society of Japan   57 308-312   2014年1月
Discharge plasma, especially that generated at low gas pressures, is an important application of vacuum technology. This article describes the unique features of low gas pressure plasma, generation of plasma discharge and various plasma parameters...
Takeo Nakano, Takeo Nakano
Journal of the Vacuum Society of Japan   56 472-473   2013年12月

書籍等出版物

 
真空科学ハンドブック
日本真空学会 (担当:共編者, 範囲:6.1 薄膜作製)
コロナ社   2018年3月   ISBN:978-4-339-00908-8
真空の基礎科学から作成・計測・保持する技術に関わる科学的基礎を解説。また,成膜,プラズマプロセスなどの応用分野で真空環境の役割を説き,極高真空などのこれまでにない真空環境が要求される研究・応用への取組みなどを紹介。
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
表面技術協会 (担当:共著)
コロナ社   2013年5月   ISBN:978-4-339-04631-1
本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに,代表的なドライプロセスを取り上げ,どのような原理・原則に基づいているか,薄膜・表面評価分析技術について解説。
ロールtoロール技術の最新動向
シーエムシー出版   2011年3月   
スパッタ実務[Q&A集]
技術情報協会   2009年1月   
薄膜ハンドブック(第2版)
オーム社   2008年3月   

講演・口頭発表等

 
谷口日向、大家溪、中野武雄、長尾昌善、大崎壽、村上勝久
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2018年10月24日   電子情報通信学会
スピント型エミッタは真空電子源のひとつである。この陰極は、上部にホールの開いた微細キャビティを基板上に形成し、ホールを通して陰極材料となる金属をキャビティ内部に堆積させて形成する。従来この堆積には真空蒸着法が用いられていたが、大面積化が困難、高融点金属では引っ張り応力緩和のために基板加熱が必要、などの制約があった。本研究では、粒子の入射方向やエネルギーの制御が可能な大電力パルススパッタ装置を用いた。高融点金属であるMoの陰極を形成できたが、逆に圧縮応力が強くなって膜が剥がれることが多く、デ...
Tomoya Yoshida, Masayoshi Nagao, Takashi Nishi, Nobuko Koda, Takeo Nakano
Proceedings of the International Display Workshops   2012年12月1日   
A new fabrication method of Spindt-type emitters will be presented. In our method, a double-layered photoresist is used as a parting layer, and high-power impulse magnetron sputtering is used instead of e-beam evaporator for emitter-cone formation...
Tomoya Yoshida, Masayoshi Nagao, Nobuko Koda, Takashi Nishi, Hisashi Ohsaki, Takeo Nakano
Technical Digest - 25th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2012   2012年11月19日   
We propose Spindt-type field emitter array fabrication process using the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) deposition. HiPIMS method can get a lot of ionized sputtering particles due to high plasma density. We think that highly coll...
吉田 知也, 長尾 昌善, 神田 信子, 西 孝, 中野 武雄
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2012年11月12日   
従来のスピント型電子源作製プロセスを改良した新しいFEA作製プロセスを提案する.本提案プロセスでは,従来法の電子ビーム蒸着法で形成するアルミニウム剥離層の代わりにリフトオフレジストの剥離層を用い,エミッタコーン形成を大電力パルススパッタリング法によって行う.ゲート電極の形成は,エッチバック法を用いて行うため,従来法に比べ集束電極の形成も容易になる.本提案プロセスは,従来のスピント型電子源作製プロセスの大面積化の妨げになっていた電子ビーム蒸着プロセスを用いずに,大面積化が容易なスパッタプロセ...

所属学協会

 
日本表面真空学会 , 応用物理学会 , 表面技術協会 , AVS

競争的資金等の研究課題

 
文部科学省: 基盤研究(C)
研究期間: 2017年4月 - 2020年3月    代表者: 中野 武雄
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2012年 - 2014年    代表者: 中野 武雄
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2009年 - 2011年    代表者: 馬場 茂
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2007年 - 2009年    代表者: 中野 武雄
文部科学省: 科学研究費補助金(奨励研究(A))
研究期間: 1999年 - 2000年    代表者: 中野 武雄