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研究者業績

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理工学部 教員紹介

研究者リスト >> 中野 武雄
 

中野 武雄

 
アバター
研究者氏名中野 武雄
 
ナカノ タケオ
URLhttp://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
所属成蹊大学
部署理工学部 物質生命理工学科
職名教授
学位博士(工学)(東京大学)
科研費研究者番号40237342
J-Global ID200901048314885741

プロフィール

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究キーワード

 
薄膜プロセス ,スパッタリング ,薄膜物性

研究分野

 
  • ナノテク・材料 / 応用物理一般 / 
  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / 

学歴

 
1989年4月
 - 
1991年3月
東京大学 大学院工学系研究科 物理工学専攻
 
1985年4月
 - 
1989年3月
東京大学 工学部 物理工学科
 

委員歴

 
2020年
 - 
現在
日本表面真空学会  フェロー
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  電子ジャーナル委員会
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  SP 部会 副部会長
 
2010年
 - 
現在
日本表面真空学会  教育委員会
 
2010年
 - 
2015年
電気学会  高密度金属プラズマ 調査専門委員会 幹事
 

受賞

 
2015年12月
日本真空学会, 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞,反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
木村光佑 竹内将人 飯嶋佑斗 長尾昌善 大崎 壽 中野武雄 
 
2013年
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会, 部会賞
中野 武雄 
 
1998年
第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
 

論文

 
 
Katsuya Iuchi   Kei Oya   Kazuki Hosoya   Kazuki Sasaki   Yuko Sakurada   Takeo Nakano   Hisashi Hisatomi   
Cytotechnology   72(1) 131-140   2020年2月   [査読有り]
Human embryonic kidney 293T (HEK293T) cells are used in various biological experiments and researches. In this study, we investigated the effect of cell culture environments on morphological and functional properties of HEK293T cells. We used seve...
 
Takeo Nakano   Yudai Saitou   Kei Oya   
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   326 436-442   2017年10月   [査読有り]
The growth of the target erosion profile (racetrack) in DC magnetron sputtering has been experimentally studied at a modest target power. Unbalanced magnetron sputtering (UBMS) and balanced magnetron sputtering (BMS) of a copper target were conduc...
 
Takeo Nakano   Tomoki Narita   Kei Oya   Masayoshi Nagao   Hisashi Ohsaki   
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   35(2) 022204   2017年3月   [査読有り]
In this study, an array of Mo cones for volcano-structured Spindt-type microelectron emitters were fabricated. A recently developed triode high power pulsed magnetron sputtering system was used to control the positive plasma potential and efficien...
 
Motoki Inoue   Takeo Nakano   Akihiro Yamasaki   
Sustainable Materials and Technologies   3 14-16   2015年4月   [査読有り]
A novel material for recovery and separation of precious metal using grape-derived waste has been developed. The material was fabricated glutaraldehyde-crosslinked polyphenol, which derived from grape-derived wastes. Adsorption performance of prec...
 
Takeo Nakano   Yudai Saitou   Mariko Ueda   Noriaki Itamura   Shigeru Baba   
Journal of the Vacuum Society of Japan   58(7) 261-264   2015年   [査読有り]
The evolution of target "race track" erosion was evaluated experimentally during the conventional DC magnetron sputtering of metal targets with different Ar gas pressure environments. At gas pressures of 0.38, 0.5, and 1.0 Pa, an aluminum or coppe...

MISC

 
 
中野武雄   小森文夫   福谷克之   谷本育律   
表面と真空   62(1) 48-50   2019年1月   
 
谷口日向   大家 渓   中野武雄   長尾昌善   大崎 壽   村上勝久   
電子情報通信学会技術研究報告   118(263) 5-8   2018年10月   
 
 
中野 武雄   
表面科学   38(5) 223-228   2017年5月   [査読有り][招待有り]
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is a variant of sputtering deposition method in that pulsed power is applied to the sputtering target with low repetition frequency and small duty ratio. It produces high density plasma intermittently...
 
中野 武雄   
Journal of the Vacuum Society of Japan   60(9) 339-340   2017年   [招待有り]
High Power Impulse/Pulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS/HPPMS) process has several interesting aspects and is vigorously studied in recent years. In this preface, some trends in HiPIMS research are briefly reviewed: 1) the applicability of HiPIMS t...

書籍等出版物

 
 
日本真空学会(担当:共編者(共編著 者), 範囲:6.1 薄膜作製)
コロナ社   2018年3月   (ISBN:9784339009088)   
真空の基礎科学から作成・計測・保持する技術に関わる科学的基礎を解説。また,成膜,プラズマプロセスなどの応用分野で真空環境の役割を説き,極高真空などのこれまでにない真空環境が要求される研究・応用への取組みなどを紹介。
 
表面技術協会(担当:共著)
コロナ社   2013年5月   (ISBN:9784339046311)   
本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに,代表的なドライプロセスを取り上げ,どのような原理・原則に基づいているか,薄膜・表面評価分析技術について解説。
 
シーエムシー出版   2011年3月   (ISBN:9784781303215)   
 
技術情報協会   2009年1月   (ISBN:9784861042768)   
 
オーム社   2008年3月   (ISBN:9784274205194)   

講演・口頭発表等

 
 
大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果
谷口日向   大家溪   中野武雄   長尾昌善   大崎壽   村上勝久   
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2018年10月24日   電子情報通信学会   
スピント型エミッタは真空電子源のひとつである。この陰極は、上部にホールの開いた微細キャビティを基板上に形成し、ホールを通して陰極材料となる金属をキャビティ内部に堆積させて形成する。従来この堆積には真空蒸着法が用いられていたが、大面積化が困難、高融点金属では引っ張り応力緩和のために基板加熱が必要、などの制約があった。本研究では、粒子の入射方向やエネルギーの制御が可能な大電力パルススパッタ装置を用いた。高融点金属であるMoの陰極を形成できたが、逆に圧縮応力が強くなって膜が剥がれることが多く、デ...
 
Spindt-emitter fabrication without e-beam deposition
Tomoya Yoshida   Masayoshi Nagao   Takashi Nishi   Nobuko Koda   Takeo Nakano   
Proceedings of the International Display Workshops   2012年12月1日   
A new fabrication method of Spindt-type emitters will be presented. In our method, a double-layered photoresist is used as a parting layer, and high-power impulse magnetron sputtering is used instead of e-beam evaporator for emitter-cone formation...
 
Spindt-type FEA fabrication by high-power impluse magnetron sputtering (HiPIMS)
Tomoya Yoshida   Masayoshi Nagao   Nobuko Koda   Takashi Nishi   Hisashi Ohsaki   Takeo Nakano   
Technical Digest - 25th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2012   2012年11月19日   
We propose Spindt-type field emitter array fabrication process using the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) deposition. HiPIMS method can get a lot of ionized sputtering particles due to high plasma density. We think that highly coll...
 
スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
吉田 知也   長尾 昌善   神田 信子   西 孝   中野 武雄   
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2012年11月12日   
従来のスピント型電子源作製プロセスを改良した新しいFEA作製プロセスを提案する.本提案プロセスでは,従来法の電子ビーム蒸着法で形成するアルミニウム剥離層の代わりにリフトオフレジストの剥離層を用い,エミッタコーン形成を大電力パルススパッタリング法によって行う.ゲート電極の形成は,エッチバック法を用いて行うため,従来法に比べ集束電極の形成も容易になる.本提案プロセスは,従来のスピント型電子源作製プロセスの大面積化の妨げになっていた電子ビーム蒸着プロセスを用いずに,大面積化が容易なスパッタプロセ...

所属学協会

 
 
   
 
表面技術協会
 
   
 
日本表面真空学会
 
   
 
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

 
 
研究期間: 2017年4月 - 2020年3月
 
研究期間: 2012年 - 2014年
 
酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
馬場 茂 中野 武雄 
研究期間: 2009年 - 2011年
 
スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
中野 武雄 
研究期間: 2007年 - 2009年
 
高圧環境下のスパッタリング製膜過程におけるシミュレーションモデルの開発
文部科学省: 科学研究費補助金(奨励研究(A))
中野 武雄 
研究期間: 1999年 - 2000年