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研究者業績

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理工学部 教員紹介

研究者リスト >> 中野 武雄
 

中野 武雄

 
アバター
研究者氏名中野 武雄
 
ナカノ タケオ
URLhttp://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
所属成蹊大学
部署理工学部 理工学科
職名教授
学位博士(工学)(東京大学)
科研費研究者番号40237342
J-Global ID200901048314885741

プロフィール

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究キーワード

 
薄膜プロセス ,スパッタリング ,薄膜物性

研究分野

 
  • ナノテク・材料 / 応用物理一般 / 
  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / 

学歴

 
1989年4月
 - 
1991年3月
東京大学 大学院工学系研究科 物理工学専攻
 
1985年4月
 - 
1989年3月
東京大学 工学部 物理工学科
 

委員歴

 
2020年
 - 
現在
日本表面真空学会  フェロー
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  電子ジャーナル委員会
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  SP 部会 副部会長
 
2010年
 - 
現在
日本表面真空学会  教育委員会
 
2010年
 - 
2015年
電気学会  高密度金属プラズマ 調査専門委員会 幹事
 

受賞

 
2015年12月
日本真空学会, 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞,反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
木村光佑 竹内将人 飯嶋佑斗 長尾昌善 大崎 壽 中野武雄 
 
2013年
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会, 部会賞
中野 武雄 
 
1998年
第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
 

論文

 
 
Md. Suruz Mian   Takeo Nakano   Kunio Okimura   
Thin Solid Films   769 139752-139752   2023年3月   [査読有り]
 
Md. Suruz Mian   Riko Yagi   Kei Oya   Takeo Nakano   
physica status solidi (a)   2100646-2100646   2021年12月   [査読有り]
 
霜田 直宏   小出 奈央   本間 徹生   中野 武雄   張 晋   脇田 英延   里川 重夫   
63(6) 365-374   2020年11月   [査読有り]
 
Katsuya Iuchi   Kei Oya   Kazuki Hosoya   Kazuki Sasaki   Yuko Sakurada   Takeo Nakano   Hisashi Hisatomi   
Cytotechnology   72(1) 131-140   2020年2月   [査読有り]
Human embryonic kidney 293T (HEK293T) cells are used in various biological experiments and researches. In this study, we investigated the effect of cell culture environments on morphological and functional properties of HEK293T cells. We used seve...
 
Takeo Nakano   Yudai Saitou   Kei Oya   
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   326 436-442   2017年10月   [査読有り]
The growth of the target erosion profile (racetrack) in DC magnetron sputtering has been experimentally studied at a modest target power. Unbalanced magnetron sputtering (UBMS) and balanced magnetron sputtering (BMS) of a copper target were conduc...

MISC

 
 
中野武雄   小森文夫   福谷克之   谷本育律   
表面と真空   62(1) 48-50   2019年1月   
 
谷口日向   大家 渓   中野武雄   長尾昌善   大崎 壽   村上勝久   
電子情報通信学会技術研究報告   118(263) 5-8   2018年10月   
 
 
中野 武雄   
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan   38(5) 228-233   2017年5月
 
中野 武雄   
表面科学   38(5) 223-228   2017年5月   [査読有り][招待有り]
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is a variant of sputtering deposition method in that pulsed power is applied to the sputtering target with low repetition frequency and small duty ratio. It produces high density plasma intermittently...

書籍等出版物

 
 
日本真空学会(担当:共編者(共編著 者), 範囲:6.1 薄膜作製)
コロナ社   2018年3月   (ISBN:9784339009088)   
真空の基礎科学から作成・計測・保持する技術に関わる科学的基礎を解説。また,成膜,プラズマプロセスなどの応用分野で真空環境の役割を説き,極高真空などのこれまでにない真空環境が要求される研究・応用への取組みなどを紹介。
 
表面技術協会(担当:共著)
コロナ社   2013年5月   (ISBN:9784339046311)   
本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに,代表的なドライプロセスを取り上げ,どのような原理・原則に基づいているか,薄膜・表面評価分析技術について解説。
 
シーエムシー出版   2011年3月   (ISBN:9784781303215)   
 
技術情報協会   2009年1月   (ISBN:9784861042768)   
 
オーム社   2008年3月   (ISBN:9784274205194)   

講演・口頭発表等

 
 
谷口日向   大家溪   中野武雄   長尾昌善   大崎壽   村上勝久   
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2018年10月24日   電子情報通信学会   
スピント型エミッタは真空電子源のひとつである。この陰極は、上部にホールの開いた微細キャビティを基板上に形成し、ホールを通して陰極材料となる金属をキャビティ内部に堆積させて形成する。従来この堆積には真空蒸着法が用いられていたが、大面積化が困難、高融点金属では引っ張り応力緩和のために基板加熱が必要、などの制約があった。本研究では、粒子の入射方向やエネルギーの制御が可能な大電力パルススパッタ装置を用いた。高融点金属であるMoの陰極を形成できたが、逆に圧縮応力が強くなって膜が剥がれることが多く、デ...
 
木村 光佑   磯村 航   大家 渓   中野 武雄   長尾 昌善   大崎 壽   
表面科学学術講演会要旨集   2016年   公益社団法人 日本表面科学会   
反応性ガスを流入することで金属化合物薄膜を得る反応性スパッタでは、ターゲット蒸発量と反応性ガス流量の均衡が崩れることでターゲット表面状態が遷移する。昨年度は、外部パラメータを変更して遷移点の測定を行うことで、普遍性を見出すことに成功した。今年度は、この普遍性から決定した条件で製膜を行っている。発表では、得られた薄膜の光学特性を評価することで、膜質とモード遷移現象を関連付けて議論する予定である。
 
三嶋 東   桑島 理樹   中野 武雄   大家 渓   間瀬 一彦   菊地 貴司   
表面科学学術講演会要旨集   2016年   公益社団法人 日本表面科学会   
非蒸発ゲッタポンプはZrやVなどを含む合金を真空中で加熱して表面を活性化し、残留ガスを化学吸着して排気する真空ポンプである。実際にNEGポンプに用いられている合金をターゲットにしてDCスパッタ製膜を行い、製膜条件と膜の構造・組成との関係について調べた。Ar:1~3 Paの範囲では、圧力増加とともに膜のV組成がターゲットに比べて少なくなった。一方基板面内での組成均一性は圧力増加と共に良くなった。
 
竹内 将人   木村 成輝   福田 一貴   細谷 一輝   大家 渓   岩森 暁   中野 武雄   
表面科学学術講演会要旨集   2016年   公益社団法人 日本表面科学会   
Tiの酸化皮膜中に含まれるTiO2は、細胞適合性や血液適合性に優れるため、この存在比率を上げることは新たな生体材料の開発につながる。反応性スパッタにより金属モードと酸化物モードの2種類のモードでTi酸化物薄膜製膜を行った結果、金属モード製膜でのTiO2の割合は80 %に満たなかったのに対し、酸化物モード製膜ではおよそ94 %となった。現在、これらの薄膜上で細胞培養を行い、その接着性を評価している。
 
飯嶋 佑斗   陳 鵬程   佐野 智哉   大家 溪   中野 武雄   
表面科学学術講演会要旨集   2016年   公益社団法人 日本表面科学会   
タングステン酸化物はエレクトロクロミック特性を示す材料としてよく知られているが、化学量論的なWO3組成よりもいくらか酸素の欠乏した状態(WO3-x)の方がよい着色を示すということがわかっている。本研究では反応性スパッタリングで製膜した酸化タングステン薄膜の、排気速度や酸素濃度などの製膜時の条件が酸素欠乏の程度に与える影響を調べ報告する。

所属学協会

 
 
   
 
表面技術協会
 
   
 
日本表面真空学会
 
   
 
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題