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研究者業績

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研究者検索 ＞ 理工学部 教員紹介 

理工学部　教員紹介

研究者リスト >> 中野 武雄
 

中野 武雄

 
アバター
研究者氏名中野 武雄
 
ナカノ タケオ
URLhttp://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
所属成蹊大学
部署理工学部 理工学科
職名教授
学位博士（工学）(東京大学)
科研費研究者番号40237342
J-Global ID200901048314885741

プロフィール

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究キーワード

 
薄膜プロセス ,スパッタリング ,薄膜物性

研究分野

 
  • ナノテク・材料 / 応用物理一般 / 
  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / 

学歴

 
1989年4月
 - 
1991年3月
東京大学 大学院工学系研究科 物理工学専攻
 
1985年4月
 - 
1989年3月
東京大学 工学部 物理工学科
 

委員歴

12>
 
2020年
 - 
現在
日本表面真空学会  フェロー
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  電子ジャーナル委員会
 
2018年4月
 - 
現在
日本表面真空学会  SP 部会 副部会長
 
2010年
 - 
現在
日本表面真空学会  教育委員会
 
2010年
 - 
2015年
電気学会  高密度金属プラズマ 調査専門委員会 幹事
 

受賞

 
2015年12月
日本真空学会, 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞,反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
木村光佑 竹内将人 飯嶋佑斗 長尾昌善 大崎 壽 中野武雄 
 
2013年
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会, 部会賞
中野 武雄 
 
1998年
第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
 

論文

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Linear Relationship between Reactive Gas Flow Rate and Target Power at Mode Transitions in Reactive Sputtering
Takeo Nakano   Kosuke Kimura   Yuto Iijima   Masato Takeuchi   Kei Oya   Masayoshi Nagao   Hisashi Ohsaki   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology      2024年4月   [査読有り]
 
Improvement of the uniformity of structural and electrical properties of transparent conductive Al-doped ZnO thin films by inductively coupled plasma-assisted radio frequency magnetron sputtering
Md. Suruz Mian   Takeo Nakano   Kunio Okimura   
Thin Solid Films   769 139752-139752   2023年3月   [査読有り]
 
Coloring and Bleaching Properties of 500–1000 nm‐Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering
Md. Suruz Mian   Riko Yagi   Kei Oya   Takeo Nakano   
physica status solidi (a)   2100646-2100646   2021年12月   [査読有り]
 
ジメチルスルフィド分解用 NiO/γ-Al2O3 触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動—
霜田 直宏   小出 奈央   本間 徹生   中野 武雄   張 晋   脇田 英延   里川 重夫   
63(6) 365-374   2020年11月   [査読有り]
 
Different morphologies of human embryonic kidney 293T cells in various types of culture dishes.
Katsuya Iuchi   Kei Oya   Kazuki Hosoya   Kazuki Sasaki   Yuko Sakurada   Takeo Nakano   Hisashi Hisatomi   
Cytotechnology   72(1) 131-140   2020年2月   [査読有り]
Human embryonic kidney 293T (HEK293T) cells are used in various biological experiments and researches. In this study, we investigated the effect of cell culture environments on morphological and functional properties of HEK293T cells. We used seve...

MISC

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第9回真空・表面科学アジア・オーストラリア会議（VASSCAA-9），およびVASSCAA国際運営委員会とIUVSTA理事会の報告
中野武雄   小森文夫   福谷克之   谷本育律   
表面と真空   62(1) 48-50   2019年1月   
 
大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果
谷口日向   大家 渓   中野武雄   長尾昌善   大崎 壽   村上勝久   
電子情報通信学会技術研究報告   118(263) 5-8   2018年10月   
 
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第155回定例研究会「固体材料および薄膜中のプロトンの移動」開催報告
中野武雄   
表面と真空   61(2) 102-102   2018年   
 
大電力パルススパッタリングを用いた金属膜の構造制御 (特集 薄膜成長の最前線)
中野 武雄   
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan   38(5) 228-233   2017年5月
 
大電力パルススパッタリングを用いた金属膜の構造制御
中野 武雄   
表面科学   38(5) 223-228   2017年5月   [査読有り][招待有り]
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is a variant of sputtering deposition method in that pulsed power is applied to the sputtering target with low repetition frequency and small duty ratio. It produces high density plasma intermittently...

書籍等出版物

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日本真空学会(担当:共編者(共編著 者), 範囲:6.1 薄膜作製)
コロナ社   2018年3月   （ISBN:9784339009088）   
真空の基礎科学から作成・計測・保持する技術に関わる科学的基礎を解説。また，成膜，プラズマプロセスなどの応用分野で真空環境の役割を説き，極高真空などのこれまでにない真空環境が要求される研究・応用への取組みなどを紹介。
 
表面技術協会(担当:共著)
コロナ社   2013年5月   （ISBN:9784339046311）   
本書では，まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ，次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに，代表的なドライプロセスを取り上げ，どのような原理・原則に基づいているか，薄膜・表面評価分析技術について解説。
 
シーエムシー出版   2011年3月   （ISBN:9784781303215）   
 
技術情報協会   2009年1月   （ISBN:9784861042768）   
 
オーム社   2008年3月   （ISBN:9784274205194）   

講演・口頭発表等

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中野 武雄   
表面科学学術講演会要旨集   2016年   公益社団法人 日本表面科学会   
ターゲットから放出されたスパッタ原子は数 eV 程度の大きな運動エネルギーを持つが、雰囲気のガスと衝突しながら減速し、やがてガスの温度と同程度となる（熱化）。このプロセスは、スパッタ原子の輸送過程や得られる膜の構造に大きく影響することが知られている。スパッタ粒子のガス中の運動をモンテカルロ法によって取り扱い、この熱化の目安となる圧力&times;距離積（熱化距離）を評価する手法を開発したので報告する。
 
木村 光佑   竹内 将人   飯嶋 佑斗   長尾 昌善   大崎 壽   中野 武雄   
表面科学学術講演会要旨集   2015年   公益社団法人 日本表面科学会   
反応性スパッタにおける金属ターゲット状態の遷移を、放電電圧の変化によって調べた。チタニア製膜時のモード遷移点における放電電力と反応性ガス流量をプロットしたところ、原点を通る直線で近似できることを見出し、これは既存の反応収支モデルによって理解できた。今後は、遷移挙動のArガス圧力およびターゲット材料依存性について、また堆積された薄膜の組成・物性に関連付けて議論する予定である。
 
中野 武雄   成田 智基   木村 光祐   
表面科学学術講演会要旨集   2015年   公益社団法人 日本表面科学会   
Mo 薄膜を HPPMS で作製して表面構造をゾーンモデルから考察します。
 
成田 智基   中野 武雄   長尾 昌善   大崎 壽   
表面科学学術講演会要旨集   2015年   公益社団法人 日本表面科学会   
Spindt型エミッタは円錐型の形状の微小電子放出源であり、2層レジストにより微小ホールを持つキャビティ構造を形成したSi基板上にエミッタ材料の金属を成膜することで作製できる。このとき、堆積粒子の入射方向とエネルギーを制御するためにプラズマ電位を制御したHPPMSを用いることで良好な形状のエミッタを作製することができた。今回は成膜圧力および電力に対するエミッタ形状の依存性を調べたので報告する。<br>
 
吉田 知也   長尾 昌善   神田 信子   西 孝   中野 武雄   
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2012年11月12日   
従来のスピント型電子源作製プロセスを改良した新しいFEA作製プロセスを提案する.本提案プロセスでは,従来法の電子ビーム蒸着法で形成するアルミニウム剥離層の代わりにリフトオフレジストの剥離層を用い,エミッタコーン形成を大電力パルススパッタリング法によって行う.ゲート電極の形成は,エッチバック法を用いて行うため,従来法に比べ集束電極の形成も容易になる.本提案プロセスは,従来のスピント型電子源作製プロセスの大面積化の妨げになっていた電子ビーム蒸着プロセスを用いずに,大面積化が容易なスパッタプロセ...

所属学協会

 
 
   
 
表面技術協会
 
   
 
日本表面真空学会
 
   
 
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

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デュアルターゲット型大電力パルススパッタによるプラズマ電位と薄膜構造の制御
文部科学省: 基盤研究(C)
中野 武雄 
研究期間: 2017年4月 - 2020年3月
 
大電力パルススパッタにおけるパルスオフ期間のターゲット電位を用いた薄膜構造制御
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
中野 武雄 
研究期間: 2012年 - 2014年
 
酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
馬場 茂 中野 武雄 
研究期間: 2009年 - 2011年
 
スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
中野 武雄 
研究期間: 2007年 - 2009年
 
高圧環境下のスパッタリング製膜過程におけるシミュレーションモデルの開発
文部科学省: 科学研究費補助金(奨励研究(A))
中野 武雄 
研究期間: 1999年 - 2000年
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