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研究者業績

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理工学部 教員紹介

研究者リスト >> 富田 基裕
 

富田 基裕

 
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研究者氏名富田 基裕
 
トミタ モトヒロ
所属成蹊大学
部署理工学部 理工学科
職名助教
学位博士(工学)(明治大学)
科研費研究者番号90770248
ORCID ID0000-0001-6524-8152
J-Global ID201801003637058123

研究キーワード

 
電力潮流解析 ,個人間電力取引 ,プラズマ ,分子動力学法 ,熱伝導

研究分野

 
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電力工学 / 個人間電力取引
  • エネルギー / プラズマ応用科学 / 大気圧低温プラズマ
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 半導体材料

経歴

 
2022年9月
 - 
現在
成蹊大学 理工学部 理工学科 助教 
 
2021年9月
 - 
2022年8月
早稲田大学 理工学術院 講師(任期付) 
 
2021年4月
 - 
2021年8月
早稲田大学 総合研究機構 次席研究員 
 
2019年4月
 - 
2021年3月
早稲田大学 重点領域研究機構 次席研究員 
 
2018年4月
 - 
2019年3月
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構 次席研究員 
 

学歴

 
2012年4月
 - 
2015年3月
明治大学 理工学研究科 電気工学専攻博士後期課程
 
2010年4月
 - 
2012年3月
明治大学 理工学研究科 電気工学専攻博士前期課程
 
2006年4月
 - 
2010年3月
明治大学 理工学部 電気電子工学科
 
2003年4月
 - 
2006年3月
東京都立武蔵野北高校  
 

受賞

 
2021年7月
フォノンエンジニアリング研究会, 優秀ポスター賞,分子動力学法を用いたSiGe中の低エネルギーフォノンモードの変位解析
富田基裕 
 

論文

 
 
M. Tomita   S. Oba   Y. Himeda   R. Yamato   K. Shima   T. Kumada   M. Xu   H. Takezawa   K. Mesaki   K. Tsuda   S. Hashimoto   T. Zhan   H. Zhang   Y. Kamakura   Y. Suzuki   H. Inokawa   H. Ikeda   T. Matsukawa   T. Matsuki   T. Watanabe   
IEEE Transactions on Electron Devices   65(11) 5180-5188   2018年11月   [査読有り]
 
M. Tomita   M. Ogasawara   T. Terada   T. Watanabe   
ECS Transactions   86(7) 337-345   2018年9月   [査読有り]
 
Motohiro Tomita   Masataka Ogasawara   Takuya Terada   Takanobu Watanabe   
Japanese Journal of Applied Physics   57(4) 04FB04-1-04FB04-7   2018年4月   [査読有り]
We provide the parameters of Stillinger-Weber potentials for GeSiSn ternary mixed systems. These parameters can be used in molecular dynamics (MD) simulations to reproduce phonon properties and thermal conductivities. The phonon dispersion relatio...
 
Motohiro Tomita   Shunsuke Ohba   Yuya Himeda   Ryo Yamato   Keisuke Shima   Takehiro Kumada   Mao Xu   Hiroki Takezawa   Kohei Mesaki   Kazuaki Tsuda   Shuichiro Hashimoto   Tianzhuo Zhan   Hui Zhang   Yoshinari Kamakura   Yuhei Suzuki   Hiroshi Inokawa   Hiroya Ikeda   Takashi Matsukawa   Takeo Matsuki   Takanobu Watanabe   
2018 Symposium on VLSI Technology   2018-June 93-94   2018年   [査読有り]
 
M. Tomita   A. Ogura   T. Watanabe   
ECS Transactions   75(8) 785-794   2016年   [査読有り]
We have newly developed the interatomic potential of Si, Ge or Ge, Sn mixed systems to reproduce the lattice constant, phonon frequency, and phonon dispersion relations in the bulk pure group IV crystal and group IV alloys by molecular dynamics (M...

MISC

 
 
小椋 厚志   小瀬村 大亮   武井 宗久   富田 基裕   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス   110(241) 1-6   2010年10月
歪Si技術はポストスケーリング時代のブースターテクノロジーとしてすでに実用化されているが、その詳細なメカニズムは必ずしも明らかにされていない。我々は、圧縮SiN膜および埋め込みSiGeによりpMOSFETのチャネル領域に印加された歪を評価した。ゲートラストプロセスで、ダミーゲート除去後のチャネルが露出した試料に対してラマン分光測定を行った。装置空間分解能(<200nm)を下回る微細なゲート長では、長時間測定とそしてピーク分離を用いた解析を行い、ナノ領域のチャネルに印加された歪測定に成功した...
 
服部真季   小瀬村大亮   小瀬村大亮   武井宗久   永田晃基   赤松弘彬   富田基裕   水上雄輝   橋口裕樹   山口拓也   小椋厚志   諏訪智之   寺本章伸   服部健雄   大見忠弘   大見忠弘   小金澤智之   廣沢一郎   
電子情報通信学会技術研究報告   110(241(SDM2010 152-170))    2010年

書籍等出版物

 
 
D. Kosemura, M. Tomita, K. Usuda, A. Ogura(担当:共著, 範囲:Stress Measurements in Si and SiGe by Liquid-Immersion Raman Spectroscopy)
InTech   2012年8月   (ISBN:9789535107156)   

講演・口頭発表等

 
 
富田基裕   高橋光騎   瀬戸寿之   若杉健一   村上朝之   
令和5年電気学会全国大会   2023年3月17日   
 
高橋光騎   富田基裕   瀬戸寿之   若杉健一   村上朝之   
令和5年電気学会全国大会   2023年3月17日   
 
富田 基裕   保科 拓海   鎌倉 良成   松木 武雄   渡邉 孝信   
第68回応用物理学会春季学術講演会   2021年3月16日   
 
M. Tomita   K. Oda   T. Matsukawa   T. Matsuki   T. Watanabe   
International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2019   2019年11月   [招待有り]
 
富田基裕   織田海斗   松川貴   松木武雄   渡邉孝信   
日本表面真空学会「微小エネルギーの観測と制御」摩擦の科学研究部会シンポジウム   2019年10月   [招待有り]

担当経験のある科目(授業)

 
2022年
 - 
現在
パワーエレクトロニクス (成蹊大学)
2017年
 - 
2020年
Computational Experiments (Waseda University)

所属学協会

 
2023年1月
 - 
現在
電気学会
2018年8月
 - 
現在
応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会
2010年1月
 - 
現在
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

 
 
Si/SiO2界面状態の制御による熱伝導率変調技術の開発
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 若手研究
富田 基裕 
研究期間: 2020年4月 - 2022年3月
 
プレーナ型スケーラブル熱電発電機構の実証と展開
科学技術振興機構: 戦略的創造研究推進事業 CREST
渡邉 孝信 鎌倉 良成 藤ヶ谷 剛彦 黒澤 昌志 
研究期間: 2019年4月 - 2022年3月
 
計算フォノニクスを駆使したオン・シリコン熱電デバイスの開発
科学技術振興機構: 戦略的創造研究推進事業 CREST
渡邉 孝信 鎌倉 良成 池田 浩也 
研究期間: 2015年12月 - 2019年3月
 
分子動力学法を用いた歪IV-IV族混晶半導体のPDP導出に関する研究
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 特別研究員奨励費
富田 基裕 
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月
 
超解像偏光ラマン分光法と有限要素解析を用いたSi結晶中の歪テンソル評価に関する研究
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 特別研究員奨励費
富田 基裕 
研究期間: 2012年4月 - 2015年3月

学術貢献活動

 
 
企画立案・ 運営等
応用物理学会 2020年1月 - 2021年11月19日
 
企画立案・ 運営等
応用物理学会, 応物 薄膜・表面物理分科会 2018年11月 - 2019年11月20日
 
企画立案・ 運営等
 2013年10月 - 2013年11月

メディア報道

 
 
週刊科学新聞   週刊科学新聞   2018年8月   [新聞・雑誌]
 
日刊工業新聞   日刊工業新聞   https://www.nikkan.co.jp/articles/view/00477866   2018年6月   [新聞・雑誌]
 
早稲田大学   早稲田大学プレスリリース   https://www.waseda.jp/top/news/59829   2018年6月   [インターネットメディア]