原田哲男

ハラダテツヲ (Tetsuo Harada)

基本情報

所属: 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授

学位: 博士（工学）

J-GLOBAL ID: 201801018052844104
researchmap会員ID: B000326989

研究キーワード

研究分野

エネルギー / 量子ビーム科学 /

経歴

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学歴

2003年10月 - 2007年3月

東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻博士課程後期３年の課程
2001年4月 - 2003年9月

東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻博士課程前期２年の課程
1997年4月 - 2001年3月

東北大学工学部

論文

148

Fabrication of high-aspect-ratio transmission grating using DDR process for 10-nm EUV resist evaluation by EUV interference lithography

Mana Yoshifuji, Shota Niihara, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 31(2) 215-220 2018年査読有り
Imaging performance improvement of coherent extreme-ultraviolet scatterometry microscope with high-harmonic-generation extreme-ultraviolet source

Daiki Mamezaki, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe

Japanese Journal of Applied Physics 56(6) 2017年6月査読有り
集光型コヒーレント回折イメージング法によるEUVマスク上の欠陥評価法の開発

原田哲男, 橋本拓, 渡邊健夫

電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌） 137(5) 260-264 2017年査読有り
A study on enhancing EUV resist sensitivity

Atsushi Sekiguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10143 2017年査読有り
Resist investigation method using ab initio MO calculation on basis of approximation molecular model

Shohei Nagata, Shota Niihara, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 30(5) 583-589 2017年査読有り
Absorption coefficient measurement advanced method of EUV resist by direct-resist coating on a photodiode

Shota Niihara, Daiki Mamezaki, Masanori Watanabe, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 30(1) 87-92 2017年査読有り
Evaluation of block copolymer structure using soft X-ray scattering

Yusuke Nakatani, Tetsuo Harada, Atsushi Takano, Motoyuki Yamada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 30(1) 77-82 2017年査読有り
Observation of EUVL mask using coherent EUV scatterometry microscope with high-harmonic-generation EUV source

Daiki Mamezaki, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10454 2017年査読有り
Development of the negative-Tone molecular resists for EB/EUVL having high EUV absorption capacity and molecular design method

Takashi Sato, Tomoaki Takigawa, Yuta Togashi, Takumi Toida, Masatoshi Echigo, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroto Kudo

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10450 2017年査読有り
A study on enhancing EUV resist sensitivity (2)

Atsushi Sekiguchi, Yoko Matsumoto, Michiya Naito, Yoshiyuki Utsumi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10450 2017年査読有り
Extreme-ultraviolet collector mirror measurement using large reflectometer at NewSUBARU synchrotron facility

Haruki Iguchi, Hiraku Hashimoto, Masaki Kuki, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe, Yuriy Y. Platonov, Michael D. Kriese, Jim R. Rodriguez

Japanese Journal of Applied Physics 55(6) 2016年6月査読有り
Phase imaging results of phase defect using micro-coherent extreme ultraviolet scatterometry microscope

Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe

Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS 15(2) 2016年4月査読有り
Actual defect observation results of an extreme ultraviolet blank mask by coherent diffraction imaging

原田哲男

Appl. Phys. Express 9(3) 35202 2016年3月査読有り
Development of actual EUV mask observation method for micro coherent EUV scatterometry microscope

T. Harada, H. Hashimoto, T. Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9985 2016年査読有り
Development of the transmittance measurement for EUV resist by direct-resist coating on a photodiode

Daiki Mamezaki, Masanori Watanabe, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 29(5) 749-752 2016年査読有り
EUV resist outgassing analysis for the new platform resists at EIDEC

Eishi Shiobara, Yukiko Kikuchi, Shinji Mikami, Takeshi Sasami, Takashi Kamizono, Shinya Minegishi, Takakazu Kimoto, Toru Fujimori, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Satoshi Tanaka

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9776 2016年査読有り
EUVl research activity at center for EUV lithography

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada

Journal of Photopolymer Science and Technology 29(5) 737-744 2016年査読有り
Observation results of actual phase defects using micro coherent EUV scatterometry microscope

Hiraku Hashimoto, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9985 2016年査読有り
Development of high-reflective W/Si-multilayer diffraction grating for the analysis of fluorine materials

Masaki Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu, Hiroo Kinoshita

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(4) 531-536 2015年10月5日査読有り
Development of transmission grating for EUV interference lithography of 1X nm HP

Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Masaki Kuki, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(4) 525-529 2015年10月5日査読有り
Development of element technologies for EUVL

Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada

Advanced Optical Technologies 4(4) 319-331 2015年8月1日査読有り
Recent progress in EUV resist outgas research at EIDEC

Eishi Shiobara, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Takeshi Sasami, Shinya Minegishi, Toru Fujimori, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Soichi Inoue

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(1) 103-110 2015年7月28日査読有り
Effective EUV resist outgassing barrier using a novel top coat material

Xiaowei Wang, Georg Pawlowski, Tetsuo Okayasu, Masato Suzuki, Yusuke Hama, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(1) 111-117 2015年7月28日査読有り
Extreme ultraviolet mask observations using a coherent extreme ultraviolet scatterometry microscope with a high-harmonic-generation source

Takahiro Fujino, Yusuke Tanaka, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 54(6) 2015年6月1日査読有り
Quantitative phase imaging of a small phase structure on an extreme-ultraviolet mask by coherent diffraction imaging

Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Yusuke Tanaka, Tsuyoshi Amano, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Applied Physics Express 8(5) 2015年5月1日査読有り
Analysis of EUV resist outgassing depended on the dosage

E. Shiobara, I. Takagi, Y. Kikuchi, T. Sasami, S. Minegishi, T. Fujimori, T. Watanabe, T. Harada, H. Kinoshita, S. Inoue

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9422 2015年査読有り
Study of Dill's B parameter measurement of EUV resist

Atsushi Sekiguchi, Yoko Matsumoto, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9422 2015年査読有り
Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU

原田哲男, 渡邊健夫, 渡邊健夫

Proc. SPIE 9658 965819 2015年査読有り
高次高調波を用いたコヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるパタン欠陥観察(II)

藤野貴大, 田中祐輔, 原田哲男, 永田豊, 渡邊健夫, 木下博雄

応用物理学会学術講演会講演予稿集 9658 1540-1540 2015年査読有り
Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope

原田哲男

J. Micro-Nanolith. Mem 9635 21007 2015年査読有り
Demonstrating 30-nm spatial resolution of three-multilayer-mirror objective for extreme ultraviolet microscopy: Imaging test by observing lithography mask

Mitsunori Toyoda, Kenjiro Yamasoe, Akifumi Tokimasa, Kentaro Uchida, Tetsuo Harada, Tsuneo Terasawa, Tsuyoshi Amano, Takeo Watanabe, Mihiro Yanagihara, Hiroo Kinoshita

Applied Physics Express 7(10) 2014年10月1日査読有り
Multilayer reflectometry and quantitative analysis of higher order diffraction impurities of grating monochromator

Tadashi Hatano, Tetsuo Harada

Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena 196 156-158 2014年10月査読有り
(169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement

渡邊健夫, 原田哲男

J. Photopolym. Sci. Technol. 27(5) 631-638 2014年9月25日査読有り
Development of EUV mask inspection system using high-order harmonic generation with a femtosecond laser

Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Katsumi Midorikawa

Japanese Journal of Applied Physics 53(8) 2014年8月査読有り
Characterization of small phase defects using a micro-coherent extreme ultraviolet scatterometry microscope

Yusuke Tanaka, Tetsuo Harada, Tsuyoshi Amano, Youichi Usui, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 53(6 SPEC. ISSUE) 2014年6月査読有り
Synchrotron radiation absorption spectroscopy to enhance photoresists

Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Yuichi Haruyama, Tetsuo Harada, Yasuji Muramatsu, Hiroo Kinoshita, Daiju Shiono, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato

SPIE Newsroom 2014年4月16日
Observation of phase defect on extreme ultraviolet mask using an extreme ultraviolet microscope

Tsuyoshi Amano, Tsuneo Terasawa, Hidehiro Watanabe, Mitsunori Toyoda, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 13(2) 2014年4月査読有り
Contribution of EUV resist components to the non-cleanable contaminations

Eishi Shiobara, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuro Harada, Hiroo Kinoshita

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9048 2014年
Observation of phase defect on extreme ultraviolet mask using an extreme ultraviolet microscope

Tsuyoshi Amano, Tsuneo Terasawa, Hidehiro Watanabe, Mitsunori Toyoda, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinosihta

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9048 2014年査読有り
At wavelength observation of phase defect embedded in EUV mask using microscope technique

Tsuneo Terasawa, Tsuyoshi Amano, Takeshi Yamane, Hidehiro Watanabe, Mitsunori Toyoda, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9048 2014年査読有り
Correlation study on resist outgassing between EUV and e-beam irradiation

Yukiko Kikuchi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Norihiko Sugie, Toshiya Takahashi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9048 2014年査読有り
At-wavelength observation of phase defect using focused lensless microscope

Tetsuo Harada, Yusuke Tanaka, Tsuyoshi Amano, Youichi Usui, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 9048 2014年査読有り
Phase defect characterization on an extreme-ultraviolet blank mask using microcoherent extreme-ultraviolet scatterometry microscope

Tetsuo Harada, Yusuke Tanaka, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Youichi Usui, Tsuyoshi Amano

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 31(6) 2013年11月査読有り
Simulation analysis of the characteristics of a high magnification imaging optics for the observation of extreme ultraviolet lithography mask to predict phase defect printability

Tsuneo Terasawa, Yukiyasu Arisawa, Tsuyoshi Amano, Takeshi Yamane, Hidehiro Watanabe, Mitsunori Toyoda, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 52(9) 2013年9月査読有り
Plasma debris sputter resistant x-ray mirror

Sho Amano, Tomoaki Inoue, Tetsuo Harada

Applied Optics 52(16) 3845-3848 2013年6月1日査読有り
Phase imaging of extreme-ultraviolet mask using coherent extreme-ultraviolet scatterometry microscope

Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 52(6 PART 2) 2013年6月査読有り
Recent activities on extreme ultraviolet lithography in newsubaru

Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata

Japanese Journal of Applied Physics 52(6 PART 2) 2013年6月査読有り
Development of tool for contamination layer thickness measurement using high power extreme ultraviolet light and in situ ellipsometer

Takeo Watanabe, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Norihiko Sugie, Hiroyuki Tanaka, Eishi Shiobara, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 52(5 PART 1) 2013年5月査読有り
Observation of residual-type thin absorber defect on extreme ultraviolet lithography mask using an extreme ultraviolet microscope

Tsuyoshi Amano, Susumu Iida, Ryoichi Hirano, Tsuneo Terasawa, Hidehiro Watanabe, Kenjiro Yamasoe, Mitsunori Toyoda, Akifumi Tokimasa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita

Applied Physics Express 6(4) 2013年4月査読有り
コヒーレントEUV光源を用いたEUVLマスクの欠陥検出

永田豊, 原田哲男, 渡邊健夫, 緑川克美, 木下博雄

電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society 133(10) 509-518 2013年査読有り

MISC

200

EUVリソグラフィ用の実露光波長マスク検査装置の開発

原田哲男

レーザー研究 52(1) 31 2024年
BL-9Cビームライン【JST機械翻訳】

原田哲男

LASTI Annual Report (Web) 25 2024年
BL-10ビームライン【JST機械翻訳】

原田哲男

LASTI Annual Report (Web) 25 2024年
主鎖切断型レジストのEUV照射による現像特性評価

志賀竜太, 山川進二, 原田哲男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
水素雰囲気中における高強度EUV照射によるEUVマスク吸収体の評価

石田隼登, 山川進二, 原田哲男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年

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共同研究・競争的資金等の研究課題

EUV波面シンセサイザの開発と実時間・超深度ナノイメージングへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

豊田光紀, 原田哲男
共鳴軟Ｘ線反射率測定によるフォトレジストの反応分布評価手法の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

原田哲男
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

木下博雄, 原田哲男, 村松康司, 渡邊健夫, 渡邊健夫, 村松康司
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2013年4月 - 2016年3月

渡邊健夫, 原田哲男, 木下博雄, 武藤正雄, 津野勝重
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2010年 - 2012年

渡邊健夫, 木下博雄, 原田哲男, 塩野大寿

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産業財産権

特許6031659 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構

永田豊, 原田哲男, 木下博雄
特許5846681 欠陥特性評価装置

原田哲男, 木下博雄, 臼井洋一, 渡邊健夫
特許5683236 形状測定装置

原田哲男, 木下博雄, 渡邊健夫
特願2010-192518 パタン幅測定装置

原田哲男, 木下博雄, 渡邊健夫

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共同研究・競争的資金等の研究課題

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