新部正人

ニイベマサヒト (Masahito Niibe)

基本情報

所属: 東京大学物性研究所特任研究員
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員准教授

学位: 博士(理学)(北海道大学)

J-GLOBAL ID: 200901090383560303
researchmap会員ID: 1000254223

外部リンク: http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/LASTI/staff/member/Niibe_HP/niibe.html

新部正人（Niibe Masahito Ph.D）
所属：兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
光量子システム分野准教授

（大学院）:兵庫県立大学大学院工学研究科材料・放射光工学専攻

連絡先：兵庫県赤穂郡上郡町光都3-1-2

研究キーワード

研究分野

経歴

2021年10月 - 現在

東京大学物性研究所特任研究員
2004年4月 - 2021年3月

兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授
1994年10月 - 2003年3月

姫路工業大学高度産業科学技術研究所助教授
1984年4月 - 1994年9月

キヤノン(株)中央研究所研究員

委員歴

論文

132

Microstructure-controlled charge transport in disordered carbon electrodes for HTM-free perovskite solar cells

Ryuki Tsuji, Kenichirou Tanaka, Ryotaro Sakakibara, Takaya Shioki, Kota Oishi, Georgios Loukeris, Dmitry Bogachuk, Lukas Wagner, David Martineau, Wataru Norimatsu, Satoru Suzuki, Masahito Niibe, Andreas Hinsch, Seigo Ito

Carbon 256 121647-121647 2026年6月
Automated elucidation of crystal and electronic structures in boron nitride from X-ray absorption spectra using uniform manifold approximation and projection

Reika Hasegawa, Arpita Varadwaj, Alexandre Lira Foggiatto, Masahito Niibe, Takahiro Yamazaki, Masafumi Horio, Yasunobu Ando, Takahiro Kondo, Iwao Matsuda, Masato Kotsugi

SCIENTIFIC REPORTS 15(1) 2025年11月10日
Electronic structure of the YCrB₄ crystal surface, studied by micro-focused photoemission spectroscopy

Xiaoni Zhang, Yuki Tsujikawa, Masashige Miyamoto, Kazuki Yamaguchi, Masahito Niibe, Daisuke Nishio-Hamane, Mei Yuan, Kenichi Ozawa, Masafumi Horio, Kunio Yubuta, Takahiro Kondo, Iwao Matsuda

Physical Review Materials 2025年9月2日
Surface structure of the <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML"><mml:mrow><mml:mn>3</mml:mn><mml:mo>×</mml:mo><mml:mn>3</mml:mn><mml:mtext>-Si</mml:mtext></mml:mrow></mml:math> phase on Al(111), studied by the multiple usages of positron diffraction and core-level photoemission spectroscopy

Yusuke Sato, Yuki Fukaya, Akito Nakano, Takeo Hoshi, Chi-Cheng Lee, Kazuyoshi Yoshimi, Taisuke Ozaki, Takeru Nakashima, Yasunobu Ando, Hiroaki Aoyama, Tadashi Abukawa, Yuki Tsujikawa, Masafumi Horio, Masahito Niibe, Fumio Komori, Iwao Matsuda

Physical Review Materials 9(1) 2025年1月7日
Macroscopic sheets of hydrogen boride and their spectroscopic evaluation

Kazuki Yamaguchi, Masahito Niibe, Xiaoni Zhang, Toshihide Sumi, Masafumi Horio, Yasunobu Ando, Jun-ichi Yamaura, Eiken Nakamura, Kiyohisa Tanaka, Takahiro Kondo, Iwao Matsuda

Physical Review Materials 2024年7月15日

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MISC

アモルファス炭素膜のsp²結合炭素配向性のレーザ照射による変化

馬田直樹, 青野祐子, 新部正人, 新部正人, 神田一浩, 平田祐樹, 大竹尚登, 赤坂大樹

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 84th 2023年
酸化グラフェンの原子状水素・原子状窒素処理によるn型グラフェンFETの低コスト創製

部家彰, 住友弘二, 新部正人

マツダ財団研究報告書(科学技術振興関係) 35 2023年
Si含有DLC膜のX線吸収微細構造測定による構造解析

寺井響, 中西康次, 新部正人, 神田一浩, 赤坂大樹

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 69th 2022年
Si含有DLC膜の軟X線照射による化学状態変化

三嶋友博, 中西康次, 新部正人, 春山雄一, 神田一浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 83rd 2022年
自立膜を隔壁としたHeパスによる大気圧下軟X線吸収分光装置の開発

新部正人, 堀川裕加, 徳島高

X線分析の進歩 (51) 41-48 2020年3月
DLCへの原子状水素照射とXAS法による表面のその場観察

新部正人, 部家彰, 赤坂大樹, 神田一浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年
Si含有水素化DLC膜の軟X線照射による局所構造変化

神田一浩, 田中祥太郎, 新部正人, 長谷川孝行, 長谷川孝行, 鈴木常生

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年
原子状水素による2種類のDLC膜のエッチング速度

部家彰, 新部正人, 原田哲男, 赤坂大樹, 神田一浩, 渡邊健夫, 住友弘二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年
中性子照射HOPGの高圧高温処理による圧縮グラファイトの形成

惠良将輝, 市川優史, 新部正人, 寺澤倫孝, 藤井俊治郎, 本多信一, 肥後祐司, 庭瀬敬右, 岩田忠夫, 新名亨, 大藤弘明, 入舩徹男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
原子状水素を用いたNiコートミラーの炭素汚染の除去

新部正人, 原田哲男, 部家彰, 渡邊健夫, 松尾直人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
結晶配向性と励起エネルギーを変化させたグラファイトにおけるC-K発光スペクトルの入/出射角度依存性

竹平徳崇, 新部正人, 荒木佑馬, 徳島高

X線分析の進歩 (48) 129-136 2017年3月
原子状水素を用いたNiコートミラーの炭素汚染の除去

新部正人, 原田哲男, 部家彰, 渡邊健夫, 松尾直人

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
Si含有水素化DLC膜への原子状酸素照射の影響

貴傳名健悟, 新部正人, 横田久美子, 田川雅人, 古山雄一, 小松啓志, 齋藤秀俊, 神田一浩

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集 28th 2015年
Transformation of multiwalled carbon nanotubes to amorphous carbon nanorods under ion irradiation

Shin-ichi Honda, Ryosuke Tamura, Yusuke Nosho, Akira Tsukagoshi, Masahito Niibe, Mititaka Terasawa, Ryuji Hirase, Hirokazu Izumi, Hideki Yoshioka, Keisuke Niwase, Eiji Taguchi, Kuei-Yi Lee, Masaki Oura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(2) 2014年2月査読有り
Si含有DLC膜に対する軟X線照射の影響

今井亮, 新部正人, 鈴木常生, 小松啓志, 齋藤秀俊, 神田一浩

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集 27th 2014年
Ti含有DLC膜の原子状酸素照射への耐性

貴傳名健悟, 遠藤みなみ, 今井亮, 新部正人, 横田久美子, 田川雅人, 古山雄一, 小松啓志, 齋藤秀俊, 神田一浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 61st 2014年
Si含有DLC膜の原子状酸素照射効果

貴傳名健悟, 新部正人, 横田久美子, 田川雅人, 古山雄一, 小松啓志, 齋藤秀俊, 神田一浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 75th 2014年
Spectroscopic characterization of ion-irradiated multi-layer graphenes

Akira Tsukagoshi, Shin-ichi Honda, Ryo Osugi, Hiraku Okada, Masahito Niibe, Mititaka Terasawa, Ryuji Hirase, Hirokazu Izumi, Hideki Yoshioka, Keisuke Niwase, Eiji Taguchi, Kuei-Yi Lee, Masaki Oura

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 315 64-67 2013年11月査読有り
27pPSA-53 窒素とヘリウムDBDプラズマ処理された酸化チタン薄膜の表面状態(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

川上烈生, 新部正人, 中野由崇, 松永史彦, 山田哲也, 仲祐弥, 白濱達夫, 青木一馬, 高畑麻里, 大場健太

日本物理学会講演概要集 68(2) 820-820 2013年8月26日
Damage Analysis of n-GaN Crystal Etched with He and N₂ Plasmas (Special Issue : Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials)

Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Kawakami Retsuo

Japanese journal of applied physics : JJAP 52(1) 01AF04-1-5 2013年1月
軟X線干渉法によるEUV投影光学系の波面計測

新部正人

放射光 19(1) 20-26 2006年1月31日
Characterization of light radiated from 11 m long undulator

M Niibe, M Mukai, S Miyamoto, Y Shoji, S Hashimoto, A Ando, T Tanaka, M Miyai, H Kitamura

SYNCHROTRON RADIATION INSTRUMENTATION 705 576-579 2004年
Magnetic Field Correction of 11m Long Undulator of NewSUBARU

Yoshihiko SHOJI, Shuji MIYAMOTO, Masahito NIIBE, Takashi TANAKA, Hideo KITAMURA

IEEE Trans. on Applied Superconductivity 14 572-575 2004年
Control of roughness in Mo/Al multilayer film fabricated by DC magnetron sputtering

H Nii, M Miyagawa, Y Matsuo, Y Sugie, M Niibe, H Kinoshita

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 41(8) 5338-5341 2002年8月
Proposal of at-wavelength PDI for EUVL optics alignment by using a compact undulator

Y Gomei, K Sugisaki, Y Zhu, M Niibe

MICROELECTRONIC ENGINEERING 61-2 1077-1082 2002年7月
Stress changes and stability of sputter-deposited Mo/B4C multilayer films for extreme ultraviolet mirrors

M Niibe, H Nii, Y Sugie

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 41(5A) 3069-3075 2002年5月
極端紫外線露光技術

木下博雄, 渡邊健夫, 新部正人

應用物理 71(2) 190-194 2002年2月10日
First operation of 11m long undulator at NewSUBARU

S.Hashimoto, A.Ando, M.Niibe, S.Miyamoto, Y.Shoji, Y.Fukuda, T.Tanaka, Y.Gomei

Nucl. Inst. and Meth. A 467-468 141-144 2001年
Present Status of Synchrotron Radiation Facility "NewSUBARU"

Satoshi Hashimoto, Ainosuke Ando, Sho Amano, Yuichi Haruyama, Tadashi Hattori, Kazuhiko Kanda, Hiroo Kinoshita, Shinji Matsui, Harutaka Mekaru, Shuji Miyamoto, Takayasu Mochizuki, Masahito Niibe, Yoshihiko Shoji, Yuichi Utsumi, Takeo Watanabe

Trans. Material Research Soc. Japan 26(2) 783-786 2001年
Current status of ASET-HIT EUV phase-shifting point diffraction interferometer

Y Gomei, K Sugisaki, YC Zhu, M Niibe, T Watanabe, H Kinoshita

SOFT X-RAY AND EUV IMAGING SYSTEMS II 4506 39-45 2001年
Contrast measurement of reflection masks fabricated from Cr and Ta absorbers for extreme ultraviolet lithography

M Niibe, T Watanabe, H Nii, T Tanaka, H Kinoshita

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 39(12B) 6815-6818 2000年12月
AFM study of the surface deformation of austenitic stainless steel irradiated by He+ ions

L Liu, T Mitamura, M Niibe, H Tsubakino, M Terasawa

JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS 278(1) 30-36 2000年3月
CrとTa吸収体を用いて作製した極端紫外光リソグラフィ用、反射型マスクのコントラスト測定

日本応用物理学会報 39 6815 2000年
ASETの露光波長における位相シフト点回折干渉計開発の現状

国際光学機器学会プロシーディングス 4166 47-53 2000年
He⁺イオン照射されたオーステナイトステンレス鋼の表面変形の原子間力顕微鏡による研究

LIU L, MITAMURA T, NIIBE M, TSUBAKINO H, TERASAWA M

核材料ジャーナル 278(1) 30-36 2000年
Present status of the ASET at-wavelength phase-shifting point diffraction interferometer

K Sugisaki, Y Zhu, Y Gomei, M Niibe, T Watanabe, H Kinoshita

SOFT X-RAY AND EUV IMAGING SYSTEMS 4146 47-53 2000年
Surface relief associated with isothermal martensite in zirconia-3-mol%-yttria ceramics observed by atomic force microscopy

H Tsubakino, Y Kuroda, M Niibe

JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY 82(10) 2921-2923 1999年10月
原子間力顕微鏡で観察したジルコニアー3%イットリアセラミクスの等温マルテンサイト相の表面レリーフ

米国セラミクス学会ジャーナル 82 2921 1999年
EUVリソグラフィ技術の現状

木下博雄, 渡邊健夫, 新部正人

半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 55 111-116 1998年12月3日
Ring-field extreme ultraviolet exposure system using aspherical mirrors

K Murakami, T Oshino, H Kinoshita, T Watanabe, M Niibe, M Ito, H Oizumi, H Yamanashi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 37(12B) 6750-6755 1998年12月
Fabrication of Mo/Al multilayer films for a wavelength of 18.5 nm

H Nii, M Niibe, H Kinoshita, Y Sugie

JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION 5 702-704 1998年5月
Isochronous storage ring of the NewSUBARU project

A.Ando, S.Amano, S.Hashimoto, H.Kinoshita, S.Miyamoto, T.Mochizuki, M.Niibe, Y.Shoji, M.Terasawa, T.Watanabe, N.Kumagai

J. Synchrotron Rad. 5 342-344 1998年
EUVリソグラフィー用の3枚非球面ミラーシステム

国際光学機器学会プロシーディングス 3331 20 1998年
シンクロトロン光源を用いたEUV露光実験システム

フォトポリマー科学技術ジャーナル 11 50 1998年
極端紫外光リソグラフィにおけるマスク技術

国際光学機器学会プロシーディングス 3412 358 1998年
極端紫外光リングラフィ(EUVL)光学系用の非球面ミラーの作製

国際光学機器学会プロシーディングス 3447 32 1998年
多層膜コートした反射鏡を用いたLIGAビームラインの設計

国際光学機器学会プロシーディングス 3447 2 1998年
非球面ミラーを用いたリングフィールド極端紫外光露光システム

日本応用物理学会報 37 6750 1998年
波長18.5mm用Mo/Al軟X線多層膜の作製と評価

放射光ジャーナル 5 702 1998年
Three-aspherical mirror system for EUV lithography

H Kinoshita, T Watanabe, M Niibe, M Ito, H Oizumi, H Yamanashi, K Murakami, T Oshino, Y Platonov, N Grupido

EMERGING LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES II 3331 20-31 1998年