吉木啓介

研究者氏名	吉木啓介
	ヨシキケイスケ
URL	http://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/yoshiki/yoshiki/index.html
所属	兵庫県立大学
部署	産学連携・研究推進機構
職名	特任准教授
学位	博士（工学）(大阪大学), Bachelor of Engineering(Hiroshima University)
その他の所属	大阪大学ナノデザイン教育研究センター
J-Global ID	200901096032447320

研究キーワード

レーザー加工 ,生体高分子 ,液晶 ,顕微鏡 ,光学

研究分野

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ライフサイエンス / 解剖学 /
ライフサイエンス / 生物物理学 /
ナノテク・材料 / 応用物理一般 /
ナノテク・材料 / 光工学、光量子科学 /
ナノテク・材料 / ナノバイオサイエンス /

経歴

2009年4月

現在

兵庫県立大学工学研究科助教

2005年

2009年

大阪大学ナノサイエンス・ナノテクノロジー研究推進機構特任助教

2005年

2009年

Organization for the Promotion of Research on Nanoscience and Nanotechnology Osaka University Specially Appointed Assistant

学歴

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2005年

大阪大学基礎工学研究科機能創成

2005年

大阪大学

2003年

広島大学工学研究科機械システム工学

2003年

広島大学

2001年

広島大学工学部第一類

論文

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X-ray absorption studies on the growth process of radio-frequency- magnetron-sputtered boron nitride films: Effects of bias voltage and substrate temperature

Satoko Hori Masahito Niibe Takuya Kotaka Kiyotoshi Fujii Keisuke Yoshiki Takahiro Namazu Shozo Inoue

Japanese Journal of Applied Physics 52(4) 2013年4月 [査読有り]

We have investigated the effects of bias voltage and substrate temperature on the growth process of RF-magnetron-sputtered BN films. When the negative bias voltage was higher than 80 V, films including the sp3-BN phase grew even if the substrate t...

合金ターゲットのスパッタリングによって作製したZrCuNiAl金属ガラス薄膜の機械的性質の評価

船越政伸西祐一吉木啓介生津資大井上尚三

精密工学会学術講演会講演論文集 2013 561-562 2013年

本研究では，合金ターゲットを用いたスパッタ法によって成長させたZrCuNiAl薄膜の機械的特性を調査した．その結果，成膜条件による薄膜のモルフォロジーの変化にともなって硬さ，ヤング率，引張り強度などの機械特性も変化することが明らかとなった．現在，成膜条件がガラス転移挙動に及ぼす影響について調査中であり，ガラス転移が生じる温度域での微細加工についても検討する予定である．

高周波スパッタリング法によるBN薄膜の成長:イオン流束とエネルギーがc-BN相含有率に及ぼす影響

神宮司敏藤井清利天野友子新部正人吉木啓介生津資大井上尚三

精密工学会学術講演会講演論文集 2013 563-564 2013年

スパッタ中の基板に降り注ぐイオンの量とエネルギーは、マグネトロン周囲に巻いたコイルの電流や基板バイアス電圧によって制御できる。これらを変化させてBN薄膜を成長させた結果、どちらも薄膜のc-BN相含有率に影響を及ぼすことがわかった。また、基板そのものもc-BN相の含有率に影響があり、超硬合金基板上でc-BN相が生成する条件はSi基板に比べてより高エネルギー側にシフトすることも明らかとなった。

生体適合性を有する自己伝播発熱多層薄膜材料の探索

南端章也吉木啓介生津資大井上尚三

精密工学会学術講演会講演論文集 2013 573-574 2013年

本研究は，安定した自己伝播発熱反応を生じるNiフリー材料の探索を目的としている．今回はTi-Si多層薄膜に着目し，種々のTi:Si膜厚比を持つ多層薄膜を作製して自己伝播発熱反応を観察した．その結果，Ti:Si=5:4の組成を持つ多層薄膜は，非常に良好な自己伝播反応を示すことを見出した．また，Ti-Si多層薄膜の反応開始に必要な総膜厚はNi-Al多層薄膜よりむしろ薄く，ナノ発熱材料として期待できることがわかった．

合金ターゲットを用いたスパッタ法によるZrCuNiAl金属ガラス薄膜の作製

船越政伸吉木啓介生津資大井上尚三

精密工学会学術講演会講演論文集 2012 309-310 2012年

本研究では，MEMS用構造材料として応用が期待できるZr65Cu17.5Ni10Al7.5を高周波マグネトロンスパッタリング装置で薄膜化し，作製条件が薄膜の内部応力や組成に及ぼす影響を調査した．その結果，薄膜の組成はターゲットから幾分ずれており，作製時のAr圧によって数%程度変化することが分かった．また，ZrCuNiAl金属ガラス薄膜の内部応力は，結晶の金属薄膜と同様にAr圧の増加に伴って圧縮から引張りに遷移することが明らかとなった．

MISC

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若手研究者の挑戦(第18回)ジョーンズベクトルで記述できる全ての偏光・位相を生成する液晶空間光変調器

吉木啓介

Optronics : 光技術コーディネートジャーナル 36(5) 114-120 2017年5月

第2高調波発生顕微鏡によるアキレス腱コラーゲン内の応力分布計測 (2014年度年次講演会)

吉木啓介五網信貴生津資大

日本実験力学会講演論文集 (14) 373-375 2014年

偏光モード変換器による既設レーザー加工機の省エネルギー化

吉木啓介

天田財団助成研究成果報告書 = Report of grant-supported researches the Amada Foundation 26 202-205 2013年

OS1910 単結晶シリコン破壊強度の変形モード依存性

生津資大山際裕也吉木啓介井上尚三

M&M材料力学カンファレンス 2012 "OS1910-1"-"OS1910-3" 2012年9月

In this article, the influences of specimen size and deformation-mode on the fracture strength of single-crystal silicon (SCS) micro-beam structures are described. We have designed and developed a new materials test device that is able to apply pu...

OS1908 カソードルミネッセンスを用いたシリコン酸化膜の応力計測 : 電子線照射によるダメージの解析

五網信貴生津資大山下直晃市川聡中庸行柿沼繁西方健太郎吉木啓介井上尚三

M&M材料力学カンファレンス 2012 "OS1908-1"-"OS1908-3" 2012年9月

Non-contact stress evaluation is required for nano-scale devices related to LSI and MEMS to improve their characteristics and reliability. Raman spectroscopy is known to measure surface stress of silicon without contacts and damages, but it cannot...