渡邊健夫

研究者氏名	渡邊健夫
	ワタナベタケオ
URL	http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp
所属	兵庫県立大学
部署	高度産業科学技術研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター
職名	教授
学位	理学博士(大阪市立大学)
J-Global ID	200901004223661630

研究キーワード

電子デバイス・機器工学 ,応用光学・量子光工学

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器 /
ナノテク・材料 / 光工学、光量子科学 /

経歴

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2023年4月

現在

兵庫県立大学学長特別補佐(先端研究担当)

2023年4月

現在

兵庫県立大学産学連携・研究推進機構放射光産業利用支援本部本部長代行

2022年4月

現在

兵庫県立大学学長特別補佐（先端科学技術・異分野融合研究推進）

2022年4月

現在

兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長特別補佐

2015年4月

現在

兵庫県立大学高度産業科学技術研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センターセンター長

学歴

1987年4月

1990年9月

大阪市立大学理学研究科後期博士課程物理学専攻

委員歴

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2022年

現在

兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」座長

2022年

現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology President

2021年

現在

一般社団法人日本半導体製造協会会員

2019年4月

現在

Photomask Japan Conference chair

2018年

現在

International Conference on Photomask Japan Conference Chair and Chair of the Organizing Committee

受賞

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2023年4月

International Conference of Photopolymer Science and Technology, Outstanding Contributions A ward
渡邊健夫

2022年7月

研究活動教員表彰, 最優秀賞
渡邊健夫

2016年5月

ニュークリアサイエンス協会, ニュークリアサイエンス協会賞,放射光を利用したレジストの開発に関する研究
渡邊健夫

2013年6月

International Workshop on EUV Lithography, Best Paper Award,R&D of EUV Lithography
渡邊健夫

2008年6月

International Workshop on EUV Lithography, Best Poster Award 1st Place,EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source
渡邊健夫

論文

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The X-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-Tone PAG bound resist

Shinji Yamakawa Tetsuo Harada Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 12750 2023年

Development of new EUV resists is required for next-generation EUV lithography. A resist in which a large amount of photoacid generator (PAG) is introduced into the polymer side chain has been reported as a high-resolution nonchemically amplified ...

Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure

Yosuke Ohta Atsushi Sekiguchi Shinji Yamakawa Tetsuo Harada Takeo Watanabe Hiroki Yamamoto

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 49-54 2022年12月 [査読有り]

Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement

Tomohito Kizu Shinji Yamakawa Takeo Watanabe Seiji Yasui Tomoyuki Shibagaki

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 55-59 2022年12月 [査読有り]

Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist

Atsunori Nakamoto Shinji Yamakawa Tetsuo Harada Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 61-65 2022年12月 [査読有り]

R&D Activities of EUV Lithography at NewSUBARU, and Possibility of Beyond EUV

Takeo Watanabe Tetsuo Harada Shinji Yamakawa

Optics InfoBase Conference Papers 2022年

The R&D of basic technologies such as mask, resist, optical element, optics. have been carried out at NewSUBARU synchrotron light facility since 1996. EUV Lithography started use in production from 2019 for 7 nm node logic devices and from 2020 fo...

MISC

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軟X線・EUV用CMOSイメージセンサの開発

寺西信一寺西信一原田哲男渡邊健夫 ZHOU Quan 木村雅俊 BOGAERTS Jan WANG Xinyang

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年

全電子収量軟X線吸収分光による一本鎖DNAの放射線損傷解析

吉田一輝松尾直人住友弘二部家彰山名一成原田哲男渡邊健夫

日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web) 2020 2020年

原子状水素による2種類のDLC膜のエッチング速度

部家彰新部正人原田哲男赤坂大樹神田一浩渡邊健夫住友弘二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年

軟X線の逆コンプトン散乱による高エネルギー光子ビームの開発

岡部雅大村松憲仁鈴木伸介伊達伸伊達伸清水肇大熊春夫神田一浩宮本修治原田哲男渡邊健夫宮部学時安敦史

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 75(1) 2020年

At wavelength coherent scatterometry microscope using high-order harmonics for EUV mask inspection

Yutaka Nagata Tetsuo Harada Takeo Watanabe Hiroo Kinoshita Katsumi Midorikawa

International Journal of Extreme Manufacturing 1(3) 2019年9月

© 2019 The Author(s). Published by IOP Publishing Ltd on behalf of the IMMT In this review, we describe our research on the development of the 13.5 nm coherent microscope using high-order harmonics for the mask inspection of extreme ultraviolet (E...