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研究キーワード
電子デバイス・機器工学
,応用光学・量子光工学
経歴
2023年4月
-
現在
兵庫県立大学 学長特別補佐(先端研究担当)
2023年4月
-
現在
兵庫県立大学 産学連携・研究推進機構 放射光産業利用支援本部 本部長代行
2022年4月
-
現在
兵庫県立大学 学長特別補佐(先端科学技術・異分野融合研究推進)
2022年4月
-
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長特別補佐
2015年4月
-
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター センター長
学歴
1987年4月
-
1990年9月
大阪市立大学 理学研究科後期博士課程 物理学専攻
委員歴
2022年
-
現在
兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」 座長
2022年
-
現在
International Conference on Photopolymer Science and Technology President
2021年
-
現在
一般社団法人 日本半導体製造協会 会員
2019年4月
-
現在
Photomask Japan Conference chair
2018年
-
現在
International Conference on Photomask Japan Conference Chair and Chair of the Organizing Committee
受賞
2023年4月
International Conference of Photopolymer Science and Technology, Outstanding Contributions A ward渡邊健夫
2022年7月
研究活動教員表彰, 最優秀賞渡邊健夫
2016年5月
ニュークリアサイエンス協会, ニュークリアサイエンス協会賞,放射光を利用したレジストの開発に関する研究渡邊 健夫
2013年6月
International Workshop on EUV Lithography, Best Paper Award,R&D of EUV Lithography渡邊 健夫
2008年6月
International Workshop on EUV Lithography, Best Poster Award 1st Place,EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source渡邊 健夫
論文
Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 12750 2023年
Development of new EUV resists is required for next-generation EUV lithography. A resist in which a large amount of photoacid generator (PAG) is introduced into the polymer side chain has been reported as a high-resolution nonchemically amplified ...
Yosuke Ohta   Atsushi Sekiguchi   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   Hiroki Yamamoto   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 49-54 2022年12月 [査読有り]
Tomohito Kizu   Shinji Yamakawa   Takeo Watanabe   Seiji Yasui   Tomoyuki Shibagaki   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 55-59 2022年12月 [査読有り]
Atsunori Nakamoto   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 61-65 2022年12月 [査読有り]
Takeo Watanabe   Tetsuo Harada   Shinji Yamakawa   
Optics InfoBase Conference Papers 2022年
The R&D of basic technologies such as mask, resist, optical element, optics. have been carried out at NewSUBARU synchrotron light facility since 1996. EUV Lithography started use in production from 2019 for 7 nm node logic devices and from 2020 fo...
MISC
中谷侑亮   原田哲男   高野敦志   山田素行   渡邊健夫   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
永田祥平   新原章汰   原田哲男   渡邊健夫   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
原田哲男   中谷侑亮   寺西信一   渡邊健夫   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
新部正人   原田哲男   部家彰   渡邊健夫   松尾直人   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
原田 哲男   渡邊 健夫   
放射光 : 日本放射光学会誌 = Journal of the Japanese Society for Synchrotron Radiation Research 31(1) 3-9 2018年1月
講演・口頭発表等
「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会(オンライン) 2023年5月25日
Takeo Watanabe   
IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online) [招待有り]
第253回フォトポリマー懇話会講演会 先端・次世代リソグラフィ技術(オンライン) 2023年4月25日
第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウム マイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術
ニュースバルシンポジウム2023 2023年3月13日
所属学協会
2021年10月
-
現在
一般社団法人 次世代日本半導体製造協会
共同研究・競争的資金等の研究課題
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定 日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(B)木下 博雄 原田 哲男 村松 康司 渡邊 健夫 渡邊 健夫 村松 康司 
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月