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研究キーワード
電子デバイス・機器工学
,応用光学・量子光工学
経歴
2023年4月
-
現在
兵庫県立大学 学長特別補佐(先端研究担当)
2023年4月
-
現在
兵庫県立大学 産学連携・研究推進機構 放射光産業利用支援本部 本部長代行
2022年4月
-
現在
兵庫県立大学 学長特別補佐(先端科学技術・異分野融合研究推進)
2022年4月
-
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長特別補佐
2015年4月
-
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター センター長
学歴
1987年4月
-
1990年9月
大阪市立大学 理学研究科後期博士課程 物理学専攻
委員歴
2022年
-
現在
兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」 座長
2022年
-
現在
International Conference on Photopolymer Science and Technology President
2021年
-
現在
一般社団法人 日本半導体製造協会 会員
2019年4月
-
現在
Photomask Japan Conference chair
2018年
-
現在
International Conference on Photomask Japan Conference Chair and Chair of the Organizing Committee
受賞
2023年4月
International Conference of Photopolymer Science and Technology, Outstanding Contributions A ward渡邊健夫
2022年7月
研究活動教員表彰, 最優秀賞渡邊健夫
2016年5月
ニュークリアサイエンス協会, ニュークリアサイエンス協会賞,放射光を利用したレジストの開発に関する研究渡邊 健夫
2013年6月
International Workshop on EUV Lithography, Best Paper Award,R&D of EUV Lithography渡邊 健夫
2008年6月
International Workshop on EUV Lithography, Best Poster Award 1st Place,EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source渡邊 健夫
論文
H. Shike   R. Kuroda   R. Kobayashi   M. Murata   Y. Fujihara   M. Suzuki   T. Shibaguchi   N. Kuriyama   J. Miyawaki   T. Harada   Y. Yamasaki   T. Watanabe   Y. Harada   S. Sugawa   
IEEE IEDM 2020 16(4) 339-342 2020年 [査読有り]
Takeharu Motokawa   MacHiko Suenaga   Kazuki Hagihara   Noriko Iida Nee Sakurai   Ryu Komatsu   Hideaki Sakurai   Shingo Kanamitsu   Keisuke Tsuda   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 11518 2020年 [査読有り]
© COPYRIGHT SPIE. Downloading of the abstract is permitted for personal use only. An essential element of sub-15 nm nanoimprint lithography is to create fine patterns on a template. However, it is challenging to create sub-15 nm half-pitch pattern...
Tetsuo Harada   Nobukazu Teranishi   Takeo Watanabe   Quan Zhou   Jan Bogaerts   Xinyang Wang   
Applied Physics Express 13(1) 2020年1月 [査読有り]
© 2019 The Japan Society of Applied Physics. We develop a high-quantum-efficiency, high-exposure-durability backside-illuminated CMOS image sensor for soft-X-ray detection. The backside fabrication process is optimized to reduce the dead-layer thi...
Akira Heya   Tetsuo Harada   Masahito Niibe   Koji Sumitomo   Takeo Watanabe   
Journal of Photopolymer Science and Technology 33(4) 419-426 2020年 [査読有り]
© 2020 SPST. The surface treatment using atomic hydrogen genareted by a heated tungsten mesh was investigated for the cleaning of the optical elements used in the synchrotron facility. We call the surface-tretament by the atomic hydrogen annealing...
Jun Tanaka   Takuma Ishiguro   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Journal of Photopolymer Science and Technology 33(5) 491-498 2020年 [査読有り]
© 2020SPST. EUV lithography is started to use in high volume manufacturing of 7-nm node semiconductor devices for smart phones. However, a resist development is still remained significant critical issue in EUV lithography. The EUV resist has to be...
MISC
中本敦啓   山川進二   原田哲男   渡邊健夫   
X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年
原田哲男   渡邊健夫   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
吉田一輝   松尾直人   住友弘二   部家彰   山名一成   原田哲男   渡邊健夫   田部井哲夫   
生体医歯工学共同研究拠点成果報告書 2020 2021年
四家寛也   黒田理人   黒田理人   黒田理人   小林諒太   村田真麻   藤原康行   鈴木学   原田将真   柴口拓   栗山尚也   初井宇記   宮脇淳   宮脇淳   宮脇淳   原田哲男   山崎裕一   山崎裕一   渡邊健夫   原田慈久   原田慈久   須川成利   須川成利   
映像情報メディア学会技術報告 45(11(IST2021 8-21)) 2021年
原田哲男   寺西信一   寺西信一   渡邊健夫   ZHOU Quan   BOGAERTS Jan   WANG Xinyang   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
講演・口頭発表等
「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会(オンライン) 2023年5月25日
Takeo Watanabe   
IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online) [招待有り]
第253回フォトポリマー懇話会講演会 先端・次世代リソグラフィ技術(オンライン) 2023年4月25日
第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウム マイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術
ニュースバルシンポジウム2023 2023年3月13日
所属学協会
2021年10月
-
現在
一般社団法人 次世代日本半導体製造協会
共同研究・競争的資金等の研究課題
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定 日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(B)木下 博雄 原田 哲男 村松 康司 渡邊 健夫 渡邊 健夫 村松 康司 
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月