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研究者業績

研究者リスト >> 原田 哲男
 

原田 哲男

 
アバター
研究者氏名原田 哲男
 
ハラダ テツヲ
URL
所属兵庫県立大学
部署高度産業科学技術研究所
職名准教授
学位博士(工学)
J-Global ID201801018052844104

研究キーワード

 
EUVリソグラフィー ,軟X線光工学

研究分野

 
  • エネルギー / 量子ビーム科学 / 

経歴

 
2019年4月
 - 
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授 
 
2008年10月
 - 
2019年3月
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教 
 
2008年4月
 - 
2008年9月
東北大学 多元物質科学研究所 教育研究支援者 
 
2007年4月
 - 
2008年3月
東北大学 多元物質科学研究所 研究支援者 
 

学歴

 
2003年10月
 - 
2007年3月
東北大学 大学院工学研究科 応用物理学専攻
 
2001年4月
 - 
2003年9月
東北大学 大学院工学研究科 応用物理学専攻
 
1997年4月
 - 
2001年3月
東北大学 工学部 
 

論文

 
 
Takahiro Ueda   Marcio D. Lima   Tetsuo Harada   Takeshi Kondo   
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62(SG)    2023年6月
There has been growing interest among advanced semiconductor manufacturers in pellicles that can withstand conditions in extreme ultraviolet (EUV) photolithography. The pellicle must have high mechanical toughness, high transparency in EUV radiati...
 
Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering   12750    2023年
Development of new EUV resists is required for next-generation EUV lithography. A resist in which a large amount of photoacid generator (PAG) is introduced into the polymer side chain has been reported as a high-resolution nonchemically amplified ...
 
Yosuke Ohta   Atsushi Sekiguchi   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   Hiroki Yamamoto   
Journal of Photopolymer Science and Technology   35(1) 49-54   2022年12月   [査読有り]
It has been reported that the good correlation in sensitivity and resolution between EUV exposure and EB exposure because of the similar mechanism of the photochemical-reaction in photoresists during exposure. However, in the early stages of EUV r...
 
Atsunori Nakamoto   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Journal of Photopolymer Science and Technology   35(1) 61-65   2022年12月   [査読有り]
In extreme ultraviolet lithography (EUVL), it is required to develop EUV resist which has low line width roughness (LWR) for the further miniaturization of circuit pattern. In order to reduce LWR, it is necessary to analyze and control the chemica...
 
Takeo Watanabe   Tetsuo Harada   Shinji Yamakawa   
Optics InfoBase Conference Papers      2022年
The R&D of basic technologies such as mask, resist, optical element, optics. have been carried out at NewSUBARU synchrotron light facility since 1996. EUV Lithography started use in production from 2019 for 7 nm node logic devices and from 2020 fo...

MISC

 
 
原田哲男   
Optics & Photonics Japan講演予稿集(CD-ROM)   2022    2022年
 
吉田一輝   松尾直人   山名一成   住友弘二   部家彰   原田哲男   田部井哲夫   
電子情報通信学会論文誌 C(Web)   J105-C(2) 74-77   2022年
我々はDNAをチャネルに用いたトランジスタ,DNA/Si-MOSFETを作製した.この素子に軟X線を照射したところ,DNAの放射線損傷に起因すると思われるドレーン電流の減少を初めて確認した.また,DNA薄膜試料を作製して軟X線を照射し,その前後でX線吸収分光測定を行うことで,DNA構造に起きる放射線損傷の解析を試みた.解析により,軟X線照射によるDNA正孔輸送の劣化と塩基の電荷捕獲,塩基構造変化に密接な関係があることを見出した.
 
原田 哲男   
光アライアンス   33(1) 39-42   2022年1月
 
四家 寛也   黒田 理人   小林 諒太   村田 真麻   藤原 康行   鈴木 学   原田 将真   柴口 拓   栗山 尚也   初井 宇記   宮脇 淳   原田 哲男   山崎 裕一   渡邊 健夫   原田 慈久   須川 成利   
映像情報メディア学会技術報告 = ITE technical report   45(11) 17-20   2021年3月
 
渡邊健夫   原田哲男   山川進二   
電気化学秋季大会講演要旨集(CD-ROM)   2021    2021年

共同研究・競争的資金等の研究課題

 
 
EUV波面シンセサイザの開発と実時間・超深度ナノイメージングへの応用
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(C)
豊田 光紀 原田 哲男 
研究期間: 2019年4月 - 2022年3月
 
共鳴軟X線反射率測定によるフォトレジストの反応分布評価手法の開発
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(C)
原田 哲男 
研究期間: 2019年4月 - 2022年3月
 
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(B)
木下 博雄 原田 哲男 村松 康司 渡邊 健夫 渡邊 健夫 村松 康司 
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月
 
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(B)
渡邊 健夫 原田 哲男 木下 博雄 武藤 正雄 津野 勝重 
研究期間: 2013年4月 - 2016年3月
 
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(B)
渡邊 健夫 木下 博雄 原田 哲男 塩野 大寿 
研究期間: 2010年 - 2012年

産業財産権

 
 
 
原田哲男   木下博雄   臼井洋一   渡邊健夫   
 
原田哲男   木下博雄   渡邊健夫   
 
原田哲男   木下博雄   渡邊健夫