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大学本部国際商経学部社会情報科学部工学研究科
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研究者業績

研究者リスト >> 大坂 藍
 

大坂 藍

 
アバター
研究者氏名大坂 藍
 
オオサカ アイ
URL
所属兵庫県立大学
部署大学院 工学研究科
職名助教
学位博士（工学）(大阪大学)
その他の所属大阪大学 産業科学研究所
J-Global ID202001011805920660

研究キーワード

 
触媒 ,三次元ナノ構造科学 ,強相関酸化物 ,表面処理 ,研磨

研究分野

 
  • ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 機械要素、トライボロジー / 
  • ナノテク・材料 / ナノ構造物理 / 
  • ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 / 表面研磨

経歴

 
2023年4月
 - 
現在
大阪大学 産業科学研究所 招聘教員 
 
2023年4月
 - 
現在
兵庫県立大学 大学院 工学研究科 助教 
 
2019年10月
 - 
2023年3月
大阪大学 産業科学研究所 附属産業科学ナノテクノロジーセンター 特任助教 
 
2017年4月
 - 
2019年9月
三菱重工業株式会社 総合研究所機械研究部  
 

学歴

 
2014年4月
 - 
2017年3月
大阪大学 大学院工学研究科 精密科学応用物理学専攻
 
2012年4月
 - 
2014年3月
大阪大学 大学院工学研究科 精密科学応用物理学専攻
 
2008年4月
 - 
2012年3月
大阪大学 工学部 応用自然科学科
 

受賞

 
2020年9月
公益社団法人精密工学会, 2020年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞,触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe3O4極薄膜における金属/絶縁体相転移特性特性の向上
 

論文

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Al–Ge-paste-induced liquid phase epitaxy of Si-rich SiGe(111) for epitaxial Co-based Heusler alloys
Michihiro Yamada   Shota Suzuki   Ai I. Osaka   Kazuaki Sumi   Takahiro Inoue   Azusa N. Hattori   Shinya Yamada   Kentarou Sawano   Marwan Dhamrin   Kohei Hamaya   
Materials Science in Semiconductor Processing   174    2024年5月
For high-performance spintronic applications with Co-based Heusler alloys, we explore Si1−xGex(111) grown by liquid phase epitaxy (LPE) with Al–Ge mixed paste, where x is the Ge content. By annealing the screen printed Al–Ge paste on a Si(111) sub...
 
Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution
D. Toh   K. Kayao   R. Ohnishi   A. I. Osaka   K. Yamauchi   Y. Sano   
AIP Advances      2023年9月
 
Strain effect on proton-memristive NdNiO3 thin film devices
Umar Sidik   Azusa N. Hattori   Hao-Bo Li   Shin Nonaka   Ai I. Osaka   Hidekazu Tanaka   
Applied Physics Express   16(1) 014001-014001   2023年1月
Abstract

We investigate resistance switching in proton-memristive NdNiO3 film devices via the diffusional migration of a proton dopant by using electric field control. Lattice strain is found to play a significant role in determining ...
 
Accessibility of ARPES for Three-dimensionally Architected Si{111}7×7 Facet Surfaces on Micro-patterned Si(110)
Ken Hattori   Yuya Sakai   Liliany N. Pamasi   Aydar Irmikimov   Takaaki Higashi   HaoBang Yang   XiaoQian Shi   FangZhun Guo   Ai I. Osaka   Hidekazu Tanaka   Takushi Iimori   Fumio Komori   Azusa N. Hattori   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology   20(4) 214-220   2022年7月
The creation of three-dimensional (3D) geometrical shapes with atomically ordered surfaces and the investigation of their physical properties are major steps contributing to the development of a new paradigm in surface science. We produced a 3D-pa...
 
Controllable Strongly Electron-Correlated Properties of NdNiO<inf>3</inf>Induced by Large-Area Protonation with Metal-Acid Treatment
Hui Ren   Ai Isohashi Osaka   Azusa N. Hattori   Boyuan Yu   Masaya Nagai   Masaaki Ashida   Bowen Li   Chongwen Zou   Hidekazu Tanaka   
ACS Applied Electronic Materials   4(7) 3495-3502   2022年7月   [査読有り]
Unlike normal hydrogen doping in a H2gas atmosphere assisted by precious metal catalysts at high temperatures, the cost-effective hydrogenation of rare-earth nickelate (RNiO3) thin films in acid solution with abundant protons supplies a tunable pr...

MISC

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六方晶窒化ホウ素上におけるFe3O4薄膜の成長と評価
玄地真悟   大坂藍   服部梓   渡邊賢司   谷口尚   田中秀和   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)   68th    2021年
 
完全結晶基板上に成長したFe3O4極薄膜金属-絶縁体相転移特性
大坂藍   服部梓   田中秀和   藤大雪   山内和人   佐野泰久   
日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)   2020    2020年
 
ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発
藤 大雪   礒橋 藍   稻田 辰昭   中平 雄太   木田 英香   松山 智至   佐野 泰久   山内 和人   
精密工学会学術講演会講演論文集   2017(0) 35-36   2017年   
我々は機能性材料を平坦化する手法として触媒表面基準エッチング法を開発してきた．加工液に純水，触媒にPt，を用いる本手法は高精度表面の実現を可能にするがステップフロー型エッチングであるため加工速度は未だ不十分である．そこで本研究ではニッケルを触媒として利用し，加工速度の向上を図った．表面が酸化され化学的不活性になりやすいニッケルを電気化学的手法によりその触媒活性を安定させ超高速加工を実現した．
 
触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案
中平 雄太   礒橋 藍   Bui Pho   稻田 辰昭   藤 大雪   木田 英香   松山 智至   佐野 泰久   山内 和人   
精密工学会学術講演会講演論文集   2017(0) 1-2   2017年   
我々はこれまで触媒表面基準エッチング法の開発を行ってきた。本手法ではエッチング反応による加工が、触媒作用を有する研磨パッドの近傍のみで進行するため凸部からの選択的な加工が可能である。砥粒等の機械的作用によるダメージはなく効率的に基準面形状の転写が可能である。本研究では、水素水を用い触媒表面の加工生成物を除去することで加工速度の安定化を行い、加工液のpHを変化させることで加工速度の向上に成功した。
 
触媒表面基準エッチング法による GaN 基板平坦化における加工速度の高速化
稻田 辰昭   礒橋 藍   藤 大雪   中平 雄太   松山 智至   佐野 泰久   山内 和人   
年次大会   2016(0) S1630201   2016年   

所属学協会

 
2021年10月
 - 
現在
日本表面真空学会
2021年1月
 - 
現在
応用物理学会
2020年1月
 - 
現在
精密工学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

12>
 
 
基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出
日本学術振興会: 科学研究費助成事業
大坂 藍 
研究期間: 2024年4月 - 2027年3月
 
化学機械研磨反応を利用したフラーレンへの高濃度水素貯蔵の挑戦
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 挑戦的研究(萌芽)
服部 梓 大坂 藍 
研究期間: 2022年6月 - 2025年3月
 
強相関酸化物の構造因子制御による柔軟応答性の創出
公益財団法人 ひょうご科学技術協会: 令和6年度 学術研究助成
研究期間: 2024年4月 - 2025年3月
 
高精度ナノ-マイクロVO2立体構造支配によるマルチガスセンサ性能の創出
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 若手研究
大坂 藍 
研究期間: 2022年4月 - 2024年3月
 
化学研磨の応用による遷移金属酸化物薄膜の物性加工技術構築
一般財団法人 先端加工機械技術振興協会: 2022年度 研究助成
研究期間: 2022年11月 - 2024年3月

産業財産権

 
 
矢野 昭彦   礒橋 藍   
 
山内 和人   礒橋 藍   佐野 泰久   
 
山内 和人   礒橋 藍   佐野 泰久   鈴木 辰俊   鈴木 大介   

メディア報道

 
 
科学新聞   4面   2021年12月   [新聞・雑誌]
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