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研究者業績

研究者リスト >> 堀田 育志
 

堀田 育志

 
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研究者氏名堀田 育志
 
 
URL
所属兵庫県立大学
部署工学部 電子情報電気工学科
職名教授
学位理学博士(大阪大学)
J-Global ID201801000676420400

研究分野

 
  • ナノテク・材料 / 無機材料、物性 / 

論文

 
 
H. Wadati   D. G. Hawthorn   J. Geck   T. Z. Regier   R. I. R. Blyth   T. Higuchi   Y. Hotta   Y. Hikita   H. Y. Hwang   G. A. Sawatzky   
APPLIED PHYSICS LETTERS   95(2)    2009年7月   
We present an x-ray absorption study of the dependence of the V oxidation state on the thickness of LaVO(3) (LVO) and capping LaAlO(3) (LAO) layers in the multilayer structure of LVO sandwiched between LAO. We found that the change of the valence ...
 
M. Takizawa   Y. Hotta   T. Susaki   Y. Ishida   H. Wadati   Y. Takata   K. Horiba   M. Matsunami   S. Shin   M. Yabashi   K. Tamasaku   Y. Nishino   T. Ishikawa   A. Fujimori   H. Y. Hwang   
PHYSICAL REVIEW LETTERS   102(23)    2009年6月   
We have studied the valence redistribution of V in LaAlO3/LaVO3/LaAlO3 trilayers, which are composed of only polar layers grown on SrTiO3 (001) substrates, by core-level photoemission spectroscopy. We have found that the V valence is intermediate ...
 
堀田 育志   松井 英章   田畑 仁   川合 知二   川合 知二   
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   98(591) 33-38   2009年2月   
不揮発性メモリ等への応用を含め、酸化物の強誘電体薄膜の研究が活発に行われている。理想的な構造MFS-FET構造を得るためには、酸化物強誘電体薄膜を化学反応活性なSi素子上へ直接形成する必要がある。しかし酸化物を直接成膜した場合、界面にSiO_xが形成するという深刻な問題が避けられない。この問題を解決する方法として、非酸化物系のカルコゲナイド(II-VI族半導体)薄膜をSi基板上へ作製し、強誘電性を示すことを明らかにした。(Zn,Cd)Se、(Zn,Cd)TeおよびLiドープZnO薄膜に於い...
 
T. Higuchi   Y. Hotta   T. Susaki   A. Fujimori   H. Y. Hwang   
PHYSICAL REVIEW B   79(7)    2009年2月   
We present evidence for hole injection into LaAlO(3)/LaVO(3)/LaAlO(3) quantum wells near a polar surface of LaAlO(3) (001). As the surface is brought in proximity to the LaVO(3) layer, an exponential drop in resistance and a decreasing positive Se...
 
Naoki Asakawa   Yasushi Hotta   Teruo Kanki   Hitoshi Tabata   Tomoji Kawai   
PHYSICAL REVIEW E   79(2) 021902   2009年1月   [査読有り]
Problems with artificial neural networks originate from their deterministic
nature and inevitable prior learnings, resulting in inadequate adaptability
against unpredictable, abrupt environmental change. Here we show that a
stochastically excitabl...

MISC

 
 
村主 圭佑   和達 大樹   新船 幸二   吉田 晴彦   堀田 育志   
日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会2022年度第3回研究会予稿集      2022年1月
 
松川幸弘   堀田育志   
計測自動制御学会関西支部・システム制御情報学会シンポジウム(CD-ROM)   2021    2022年
 
和達大樹   和達大樹   和達大樹   ZHANG Yujun   ZHANG Yujun   瀬戸山寛之   堀田育志   根元亮一   
X線分析の進歩   52(52) 161-166   2021年
 
松川幸弘   堀田育志   
電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)   2021    2021年
 
村主圭佑   和達大樹   新船幸二   吉田晴彦   堀田育志   
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)   82nd    2021年

講演・口頭発表等

 
 
堀田 育志   
日本学術振興会 R025 先進薄膜表面機能創成委員会 2022年度フォーラム   2022年12月13日   [招待有り]
 
山本 健太郎   堀田 育志   
兵庫県立大学 知の交流シンポジウム2022   2022年9月27日   
 
村主 圭佑   和達 大樹   新船 幸二   吉田 晴彦   堀田 育志   
日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会2022年度第3回研究会   2022年1月20日   
 
松川幸弘   堀田育志   
2022年1月7日   
 
浅川 直紀   堀田 育志   神吉 輝夫   河原 敏男   田畑 仁   川合 知二   
電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集   2007年8月29日   

共同研究・競争的資金等の研究課題

 
 
スパイキングネットによるエッジでのリアルタイム学習基盤
科学技術振興機構: 戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST
井上 公 
研究期間: 2019年 - 2024年
 
シリサイドフィラメント方式によるミニマル構成の抵抗変化型メモリの開発
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(C)
堀田 育志 
研究期間: 2019年4月 - 2022年3月
 
ストロンチウムシリケイトを用いたSi太陽電池用電界効果パッシベーション膜の開発
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 若手研究(B)
堀田 育志 谷脇 将太 吉田 晴彦 新船 幸二 佐藤 真一 
研究期間: 2014年4月 - 2017年3月
 
生体に学ぶゆらぎエレクトロニクス
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(S)
田畑 仁 関 宗俊 松井 裕章 堀田 育志 横田 紘子 山原 弘靖 
研究期間: 2012年5月 - 2017年3月
 
生体機能に学ぶナノ材料応用と生体機能模倣デバイスの創出
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 新学術領域研究(研究課題提案型)
神吉 輝夫 浅川 直紀 堀田 育志 
研究期間: 2009年 - 2011年

産業財産権

 
 
神吉 輝夫   加藤 浩介   堀田 育志   
 
 
堀田 育志   三宅 省三   豊嶋 祐樹   吉田 晴彦   新船 幸二   佐藤 真一   
 
佐藤 真一   新船 幸二   吉田 晴彦   堀田 育志   森 英喜   
 
神吉 輝夫   堀田 育志   浅川 直紀   川合 知二   田中 秀和