豊田 紀章   木谷 博昭   松尾 二郎   山田 公   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 96(395) 95-101 1996年12月
X線リソグラフィ用マスクのメンブレン材料として期待されているSiCやダイヤモンド薄膜に,Arクラスターイオンビームを照射し,表面平坦化効果を検討した.Arクラスターイオン照射により,SiC,ダイヤモンド薄膜とも平均粗さが照射前に比べ大幅に改善され, ドーズ増加に伴う表面の荒れも見られない.また,入射角が大きくなるにしたがい,表面粗さは大きくなる.すなわち垂直入射時が最も平坦化効果が大きいことが分かった.クラスターの原料ガスに反応性のSF_6を用いることにより,SiやSiCのスパッタ率はAr...