| 研究者業績
研究キーワード マルチフェロイック
,強誘電体
,スパッタ
,薄膜
,ビスマスフェライト
,BiFeO3
,multiferroics
,Thin films
,BiFeO3
経歴 2019年4月 - 現在 兵庫県立大学 大学院 工学研究科 准教授 2009年4月 - 2018年3月 - 兵庫県立大学大学院工学研究科 助教 2002年 - 2004年 同上 生産コア技術研究所 社員 2001年 - 2002年 同上 生産革新本部超加工研究所 社員 学歴 - 2009年 大阪大学 基礎工学研究科 システム創成専攻 - 1999年 姫路工業大学 工学研究科 電気系工学専攻 論文 Hironori Fujisawa Hironori Fujisawa Hironori Fujisawa Nao Yoshimura Seiji Nakashima Seiji Nakashima Seiji Nakashima Masaru Shimizu Masaru Shimizu Japanese Journal of Applied Physics 56(10) 2017年10月 [査読有り] © 2017 The Japan Society of Applied Physics. Metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) is one of the suitable techniques for practical applications of BiFeO3films. To develop the potential of MOCVD as a device fabrication process, we investig... Seiji Nakashima Osami Sakata Hiroshi Funakubo Takao Shimizu Daichi Ichinose Kota Takayama Yasuhiko Imai Hironori Fujisawa Masaru Shimizu Applied Physics Letters 111(8) 2017年8月 [査読有り] © 2017 Author(s). Time-resolved X-ray diffraction (XRD) with synchrotron radiation while applying continuous voltage pulses was employed to investigate the electric-field-induced lattice distortion of an epitaxial BiFeO3(BFO) thin film in a Pt/BFO... Seiji Nakashima Kota Takayama Koji Shigematsu Hironori Fujisawa Masaru Shimizu Japanese Journal of Applied Physics 55(10) 2016年10月 [査読有り] © 2016 The Japan Society of Applied Physics. Recently, the bulk photovoltaic effect of BiFeO3(BFO) thin films has attracted much attention because of its above bandgap photovoltage for realizing novel photovoltaic devices. In this study, the epita... Seiji Nakashima Tomohisa Uchida Kentaro Doi Koh Saitoh Hironori Fujisawa Osami Sakata Yoshio Katsuya Nobuo Tanaka Masaru Shimizu Japanese Journal of Applied Physics 55(10) 2016年10月 [査読有り] © 2016 The Japan Society of Applied Physics. The structural evolution of high-quality 3.3-73.2-nm-thick tetragonal-like BiFeO3(T-BFO) thin films grown on LaAlO3(001) substrates and the bulk photovoltaic effect of the films were investigated. The T... Hironori Fujisawa Hironori Fujisawa Kei Kuwamoto Seiji Nakashima Seiji Nakashima Masaru Shimizu Masaru Shimizu Japanese Journal of Applied Physics 55(2) 2016年2月 [査読有り] © 2016 The Japan Society of Applied Physics. HfO2-based thin films are one of the key dielectric and ferroelectric materials in Si-CMOS LSIs as well as in oxide electronic nanodevices. In this study, we demonstrated the fabrication of a ZnO/(Hf,Zr... MISC 加藤廉 中嶋誠二 藤沢浩訓 木村耕治 八方直久 ANG A. K. R. 加藤達也 山本裕太 林好一 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 69th 2022年 尾内惇平 畑駿亮 大島元太 藤沢浩訓 中嶋誠二 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 69th 2022年 加藤廉 中嶋誠二 藤沢浩訓 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年 尾内惇平 藤沢浩訓 中嶋誠二 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年 伊藤達也 中嶋誠二 藤沢浩訓 大河内拓雄 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
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