部家彰

研究者氏名	部家彰
	ヘヤアキラ
URL	http://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/heya/index.html
所属	兵庫県立大学
部署	大学院工学研究科材料・放射光工学専攻
職名	准教授
学位	材料科学(北陸先端科学技術大学院大学)
J-Global ID	200901019380365490

研究キーワード

原子状水素アニール ,原子状水素 ,グラフェンナノリボン ,触媒 ,化学気相成長 ,グラフェン ,2次元材料 ,構造解析 ,半導体薄膜

研究分野

エネルギー / 量子ビーム科学 /
ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 反応工学、プロセスシステム工学 /
ナノテク・材料 / 複合材料、界面 /
ナノテク・材料 / ナノ構造物理 /
ナノテク・材料 / 無機材料、物性 /

経歴

2008年4月

現在

兵庫県立大学大学院工学研究科准教授

2005年7月

2008年3月

兵庫県立大学大学院工学研究科助教

2000年4月

2005年6月

石川県工業試験場電子情報部技師

学歴

2000年

北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科物性科学専攻

1995年

鳴門教育大学学校教育学部自然系Ⅱ（理科）専攻

委員歴

2017年

現在

HWCVD プログラム委員

2016年

現在

SSDM プログラム委員

2007年

現在

Cat-CVD研究会実行委員

2006年

現在

AMFPD プログラム委員

2020年4月

表面真空学会関西支部

論文

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Photon energy dependence of graphene oxide reduction by soft X-ray irradiation and atomic hydrogen annealing

Akira Heya Akinori Fujibuchi Masahiro Hirata Yoshiaki Matsuo Junichi Inamoto Kazuhiro KANDA Koji Sumitomo

Japanese Journal of Applied Physics 2023年11月 [査読有り]

Abstract
The effects of soft X-ray irradiation and atomic hydrogen annealing (AHA) on the reduction of graphene oxide (GO) to obtain graphene were investigated. To clarify the interaction between soft X-rays and G...

Surface Cleaning and Modification of Oxide Films by Atomic Hydrogen Annealing

Akira Heya Koji Sumitomo

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(4) 351-357 2022年12月 [査読有り]

Effects of underlayer on reduction of graphene oxide through atomic hydrogen annealing and soft X-ray irradiation

Akira HEYA Akinori Fujibuchi Masahiro Hirata Kazuhiro KANDA Yoshiaki Matsuo Junichi INAMOTO Koji Sumitomo

Japanese Journal of Applied Physics 62(SC) SC1028-SC1028 2022年12月 [査読有り]

Abstract
The reduction of graphene oxide (GO) through atomic hydrogen annealing (AHA) and soft X-ray irradiation is investigated using microwell substrates with μm-sized holes with and without Ni underlayers. The ...

Surface Treatment of Aluminum Oxide Using Atomic Hydrogen Generated by Catalytic Reaction on Heated Tungsten

Ryo Yamasaki Akira Heya Naoto Matsuo Koji Sumitomo

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 21(1) 46-54 2022年12月 [査読有り]

Soft X-ray Absorption/Emission Spectroscopy and Atomic Hydrogen Irradiation Effect of Ammonia Borane

Masahito Niibe Yuichi Haruyama Akira Heya Seigo Ito

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 20(4) 226-231 2022年8月 [査読有り]

MISC

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軟X線源を用いたSiOx中nc-Siの形成

草壁史平野翔大部家彰松尾直人神田一浩望月孝晏宮本修治小濱和之伊藤和博

(一社)電子情報通信学会信学技報 114(360) 99-102 2014年12月

招待講演多結晶シリコン薄膜の低温成長に関する研究 : 高性能フレキシブルディスプレイ実現に向けて (有機エレクトロニクス)

河本直哉只友一行部家彰松尾直人

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(2) 51-54 2014年4月

レーザ照射による多結晶シリコン薄膜はガラス基板上のみならず、ポリマー基板上においても魅力的である。我々はプロセス温度を低下するため、可視レーザ光誘起横方向成長法を提案している。紫外光レーザの前、もしくは後に可視レーザを照射する。可視レーザ光を照射することで固相による結晶成長において重要な役割を果たす結晶粒界のみを選択的に加熱することにより、横方向成長は促進される。

軟X線源を用いたSi中B原子の低温活性化技術の開発 (シリコン材料・デバイス)

部家彰草壁史丸山裕樹松尾直人神田一浩野口隆

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(351) 67-72 2013年12月

10nm程度の極浅接合形成のため、アンジュレータ光源を用いた軟X線照射によるSi中B不純物の低温活性ィヒについて検討した。軟X線照射によるシート抵抗の低減効果は、熱処理と比べて400℃以下の低温領域で顕著になり、アレニウスプロットから見積もった活性化エネルギーは軟X線照射と熱処理でそれぞれ、0.06eV、0.18eVであった。照射光子エネルギーがSi2pのエネルギー準位に近づくと、活性化が促進された。また、活性化率6.2×10^<-3>と低いが、100℃程度の低温処理でも、軟X線の効果によ...

キャリア再結合抑制効果を持つ電界効果型薄膜太陽電池 (シリコン材料・デバイス)

若宮翔太小林孝裕松尾直人部家彰

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(351) 25-29 2013年12月

従来の太陽電池の発電層の両端にMOS構造を設置し,電圧を印加する事により光生成キャリアの再結合を抑止できる.本研究ではn/p構造,n/i/p構造の積層方向を受光面に対して平行にした電界効果型太陽電池において,キャリア再結合抑制効果による最適な構造を変換効率から検討する.この結果から,p/n構造における最適な構造は受光幅を500μm,ドープ濃度を1×10^<17>cm^<-3>とする構造であり,膜厚に関してはどの膜厚においてもゲート電圧印加による変換効率の改善効果を得ることができることが明ら...

軟X線照射によるSi系半導体の表面ナノ改質と低温結晶化

松尾直人部家彰

應用物理 82(5) 390-396 2013年5月