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研究者業績

研究者リスト >> 部家 彰
 

部家 彰

 
アバター
研究者氏名部家 彰
 
ヘヤ アキラ
URLhttp://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/heya/index.html
所属兵庫県立大学
部署大学院 工学研究科 材料・放射光工学専攻
職名准教授
学位材料科学(北陸先端科学技術大学院大学)
J-Global ID200901019380365490

研究キーワード

 
原子状水素アニール ,原子状水素 ,グラフェンナノリボン ,触媒 ,化学気相成長 ,グラフェン ,2次元材料 ,構造解析 ,半導体薄膜

研究分野

 
  • エネルギー / 量子ビーム科学 / 
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 反応工学、プロセスシステム工学 / 
  • ナノテク・材料 / 複合材料、界面 / 
  • ナノテク・材料 / ナノ構造物理 / 
  • ナノテク・材料 / 無機材料、物性 / 

経歴

 
2008年4月
 - 
現在
兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授 
 
2005年7月
 - 
2008年3月
兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教 
 
2000年4月
 - 
2005年6月
石川県工業試験場 電子情報部 技師 
 

学歴

 
 
 - 
2000年
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻
 
 
 - 
1995年
鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻
 

委員歴

 
2017年
 - 
現在
HWCVD  プログラム委員
 
2016年
 - 
現在
SSDM  プログラム委員
 
2007年
 - 
現在
Cat-CVD研究会  実行委員
 
2006年
 - 
現在
AMFPD  プログラム委員
 
2020年4月
   
 
表面真空学会関西支部
 

論文

 
 
Akira Heya   Koji Sumitomo   
Journal of Photopolymer Science and Technology   35(4) 351-357   2022年12月   [査読有り]
 
Akira HEYA   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Kazuhiro KANDA   Yoshiaki Matsuo   Junichi INAMOTO   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics   62(SC) SC1028-SC1028   2022年12月   [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The reduction of graphene oxide (GO) through atomic hydrogen annealing (AHA) and soft X-ray irradiation is investigated using microwell substrates with μm-sized holes with and without Ni underlayers. The ...
 
Ryo Yamasaki   Akira Heya   Naoto Matsuo   Koji Sumitomo   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology   21(1) 46-54   2022年12月   [査読有り]
 
Masahito Niibe   Yuichi Haruyama   Akira Heya   Seigo Ito   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology   20(4) 226-231   2022年8月   [査読有り]
 
A. Heya   K. Kanda   R. Yamasaki   K. Sumitomo   
Jpn. J. Appl. Phys.   61 SC1057   2022年2月   [査読有り]

MISC

 
 
春山雄一   森本大貴   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   横田久美子   田川雅人   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)   35th    2022年
 
門林大矢   橋野開   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)   82nd    2021年
 
土井響   吉水寛人   乾徳夫   樫村吉晃   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
電気学会研究会資料(Web)   (OQD-21-065-071)    2021年
 
春山雄一   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)   34th    2021年
 
部家彰   山田良貴   山崎良   神田一浩   住友弘二   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)   68th    2021年

書籍等出版物

 
 
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成)
技術情報協会   2013年5月      
 
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題)
情報機構   2011年3月      
 
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術)
CMC出版   2010年3月      
 
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置)
CMC出版   2008年10月      
 
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術)
情報機構   2007年8月      

講演・口頭発表等

 
 
草壁 史   平野 翔大   部家 彰   松尾 直人   神田 一浩   望月 孝晏   宮本 修治   小濱 和之   伊藤 和博   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   2014年12月12日   
SiO_x中に低温でナノ結晶Si(nc-Si)を形成することは、高効率太陽電池実現にとって重要な技術の一つである。我々はシンクロトロン放射光施設NewSUBARUのBL07Aを利用した軟X線照射による低温結晶化を提案しており、非晶質Si(a-Si)膜において結晶化閥値温度を100℃程度低減できることを明らかにしている。Si2p軌道の内殻準位に近い光子エネルギーの軟X線照射による電子励起・原子移動効果により、SiO_x膜中のa-Siは結晶化した。軟X線照射時の基板温度は660℃である。nc-...
 
大木 康平   若宮 彰太   小林 孝裕   部家 彰   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   2014年12月12日   
入射光により励起された正孔と電子の再結合によるエネルギー欠損の制御は重要な課題である。発電層の側壁をMISダイオードにより囲んだ電界効果型マイクロウォール太陽電池を提案する。シミュレーションにより変換効率はゲート電圧無印加の2.8倍になる。
 
中村 昇平   松尾 直人   部家 彰   山名 一成   高田 忠雄   福山 正隆   横山 新   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   2014年12月12日   
DNA(チャネル)/SiO_2/Si(ゲート)構造において,DNAのキャリアの振る舞いを調べた.シリコン基板を使って電極間に120nmのギャップを作り,DNAはギャップの間に作製した.dI_D/dV_Dは0.7Vで極値を示ており,この理由はDNA中のトラップとデトラップが関与していると考える.電子はグアニンにトラップされ,チャネル部における電圧によってデトラップが引き起こされる.p^+Siの場合多数キャリアのホールはDNAチャネル中の電子と再結合し,質量作用の法則により,トレイン電極からチ...
 
河本 直哉   只友 一行   部家 彰   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   2014年4月10日   
レーザ照射による多結晶シリコン薄膜はガラス基板上のみならず、ポリマー基板上においても魅力的である。我々はプロセス温度を低下するため、可視レーザ光誘起横方向成長法を提案している。紫外光レーザの前、もしくは後に可視レーザを照射する。可視レーザ光を照射することで固相による結晶成長において重要な役割を果たす結晶粒界のみを選択的に加熱することにより、横方向成長は促進される。
 
河本 直哉   只友 一行   部家 彰   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   2014年4月10日   
レーザ照射による多結晶シリコン薄膜はガラス基板上のみならず、ポリマー基板上においても魅力的である。我々はプロセス温度を低下するため、可視レーザ光誘起横方向成長法を提案している。紫外光レーザの前、もしくは後に可視レーザを照射する。可視レーザ光を照射することで固相による結晶成長において重要な役割を果たす結晶粒界のみを選択的に加熱することにより、横方向成長は促進される。

担当経験のある科目(授業)

 
 
   
 
材料計測制御工学 (兵庫県立大学)
 
   
 
材料計測学 (兵庫県立大学)
 
   
 
半導体工学Ⅱ (兵庫県立大学)
 
   
 
電磁気学 (兵庫県立大学)

所属学協会

 
2021年4月
   
 
日本表面真空学会
 
   
 
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

 
 
マイクロウエル架橋膜と生物小胞の融合による内容物解析基盤
日本学術振興会: 科学研究費助成事業
住友 弘二 山口 明啓 湊元 幹太 部家 彰 大嶋 梓 
研究期間: 2022年4月 - 2026年3月
 
水素と加熱触媒体を用いた2次元芳香族化合物創製とスピンデバイス応用
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(C)
部家 彰 
研究期間: 2022年4月 - 2025年3月
 
原子状水素を用いたEUV光用光学素子の表面汚染物の除去
姫路市奨学学術振興基金: 産学協同研究助成
部家 彰 
研究期間: 2019年8月 - 2020年3月
 
原子状水素アニールによる表面汚染物除去
公益財団法人 谷川熱技術振興基金: 研究助成金
部家 彰 
研究期間: 2018年10月 - 2019年9月
 
ホットメッシュ法によるグラフェンオンペンタセンの創製とその相対論的粒子の移動機構
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 基盤研究(C)
部家 彰 松尾 直人 
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月