研究者業績
研究キーワード
原子状水素アニール
,原子状水素
,グラフェンナノリボン
,触媒
,化学気相成長
,グラフェン
,2次元材料
,構造解析
,半導体薄膜
経歴
2008年4月
-
現在
兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授
2005年7月
-
2008年3月
兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教
2000年4月
-
2005年6月
石川県工業試験場 電子情報部 技師
学歴
-
2000年
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻
-
1995年
鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻
委員歴
2007年
-
現在
Cat-CVD研究会 実行委員
論文
Akira Heya   Koji Sumitomo   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(4) 351-357 2022年12月 [査読有り]
Akira HEYA   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Kazuhiro KANDA   Yoshiaki Matsuo   Junichi INAMOTO   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics 62(SC) SC1028-SC1028 2022年12月 [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The reduction of graphene oxide (GO) through atomic hydrogen annealing (AHA) and soft X-ray irradiation is investigated using microwell substrates with μm-sized holes with and without Ni underlayers. The ...
Ryo Yamasaki   Akira Heya   Naoto Matsuo   Koji Sumitomo   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 21(1) 46-54 2022年12月 [査読有り]
Masahito Niibe   Yuichi Haruyama   Akira Heya   Seigo Ito   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 20(4) 226-231 2022年8月 [査読有り]
A. Heya   K. Kanda   R. Yamasaki   K. Sumitomo   
Jpn. J. Appl. Phys. 61 SC1057 2022年2月 [査読有り]
MISC
吉馴悠人   吉水寛人   乾徳夫   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
春山雄一   森本大貴   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   横田久美子   田川雅人   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 35th 2022年
門林大矢   橋野開   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
土井響   吉水寛人   乾徳夫   樫村吉晃   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
電気学会研究会資料(Web) (OQD-21-065-071) 2021年
春山雄一   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 34th 2021年
書籍等出版物
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成)
技術情報協会 2013年5月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題)
情報機構 2011年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術)
CMC出版 2010年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置)
CMC出版 2008年10月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術)
情報機構 2007年8月
講演・口頭発表等
松尾 直人   部家 彰   望月 孝晏   宮本 修治   神田 一浩   
電子情報通信学会技術研究報告. OME, 有機エレクトロニクス 2012年4月20日
ガラス基板上に蒸着した非晶質Si,Ge,Si_xGe_<1-x>膜へ,NewSUBARU放射光施設の短尺アンジュレータ光源を用いた軟X線を照射して結晶化する新しい方法(軟X線照射法)を開発した。固相下における擬似核形成・粒成長の低温化を確認した.本方法の基本となる素過程は軟X線の光子エネルギーにより非晶質膜を構成する原子の内殻電子を局所的に励起させ,原子間のクーロン斥力により原子を移動させ,擬似結晶核を形成する事である.擬似結晶核の形成に対応して,粒成長の低温化をはかる事ができる.現状にお...
松尾 直人   部家 彰   望月 孝晏   宮本 修治   神田 一浩   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2012年4月20日
ガラス基板上に蒸着した非晶質Si,Ge,Si_xGe_<1-x>膜へ,NewSUBARU放射光施設の短尺アンジュレータ光源を用いた軟X線を照射して結晶化する新しい方法(軟X線照射法)を開発した。固相下における擬似核形成・粒成長の低温化を確認した.本方法の基本となる素過程は軟X線の光子エネルギーにより非晶質膜を構成する原子の内殻電子を局所的に励起させ,原子間のクーロン斥力により原子を移動させ,擬似結晶核を形成する事である.擬似結晶核の形成に対応して,粒成長の低温化をはかる事ができる.現状にお...
部家 彰   河本 直哉   松尾 直人   
日本金屬學會誌 2012年2月1日
部家 彰   河本 直哉   松尾 直人   
日本金属学会誌 2012年
The effects of hydrogen in a-Si film on the growth of disk-shaped grain formed by excimer laser annealing (ELA) were investigated. For the energy density of 2500 J/m2 , the disk-shaped grain was not observed by scanning elect...
髙城 祥吾   松尾 直人   山名 一成   部家 彰   高田 忠雄   横山 新   
電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報 2011年12月16日
SOI基板を用いて、100nmのギャップを持つソース/ドレイン電極間を繋ぐように形成したDNA分子の電荷保持特性を調査した.FET DNAのドレイン電流の増加は、I_d-V_d特性測定毎に観測された.私たちはこの現象の理由を次のように推測した。n+ドレイン電極から放出される正孔電流は、DNA分子内での電子のトラップにより増加する.しかしながら、すべてのフェルミエネルギーよりも大きな電子は、負のゲート電圧を印加することでDNA分子からデトラップされる.その結果、DNA FETのI_d-V_d...