研究者業績
研究キーワード
原子状水素アニール
,原子状水素
,グラフェンナノリボン
,触媒
,化学気相成長
,グラフェン
,2次元材料
,構造解析
,半導体薄膜
経歴
2008年4月
-
現在
兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授
2005年7月
-
2008年3月
兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教
2000年4月
-
2005年6月
石川県工業試験場 電子情報部 技師
学歴
-
2000年
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻
-
1995年
鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻
委員歴
2007年
-
現在
Cat-CVD研究会 実行委員
論文
Akira Heya   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Yoshiaki Matsuo   Junichi Inamoto   Kazuhiro KANDA   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics 2023年11月 [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The effects of soft X-ray irradiation and atomic hydrogen annealing (AHA) on the reduction of graphene oxide (GO) to obtain graphene were investigated. To clarify the interaction between soft X-rays and G...
Akira Heya   Koji Sumitomo   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(4) 351-357 2022年12月 [査読有り]
Akira HEYA   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Kazuhiro KANDA   Yoshiaki Matsuo   Junichi INAMOTO   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics 62(SC) SC1028-SC1028 2022年12月 [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The reduction of graphene oxide (GO) through atomic hydrogen annealing (AHA) and soft X-ray irradiation is investigated using microwell substrates with μm-sized holes with and without Ni underlayers. The ...
Ryo Yamasaki   Akira Heya   Naoto Matsuo   Koji Sumitomo   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 21(1) 46-54 2022年12月 [査読有り]
Masahito Niibe   Yuichi Haruyama   Akira Heya   Seigo Ito   
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 20(4) 226-231 2022年8月 [査読有り]
MISC
吉馴悠人   吉水寛人   乾徳夫   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
春山雄一   森本大貴   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   横田久美子   田川雅人   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 35th 2022年
門林大矢   橋野開   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
土井響   吉水寛人   乾徳夫   樫村吉晃   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
電気学会研究会資料(Web) (OQD-21-065-071) 2021年
春山雄一   部家彰   住友弘二   伊藤省吾   
日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 34th 2021年
書籍等出版物
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成)
技術情報協会 2013年5月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題)
情報機構 2011年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術)
CMC出版 2010年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置)
CMC出版 2008年10月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術)
情報機構 2007年8月
講演・口頭発表等
部家 彰   野々村 勇希   木野 翔太   松尾 直人   天野 壮   宮本 修治   神田 一浩   望月 孝晏   都甲 薫   佐道 泰造   宮尾 正信   
電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報 2011年12月16日
結晶化が起こるには、結晶核形成と結晶粒成長の2つのプロセスを経る必要があるが、一般に結晶核形成には多くのエネルギーを必要とする。我々は軟X線照射により擬似的な結晶核を形成することで、半導体薄膜の低温結晶化を試みている。今回はa-Si膜とa-Ge膜の結晶化における軟X線照射の効果について検討した。Si膜とGe膜の結晶化温度は軟X線照射により680℃から580℃、500℃から420℃と低減した。この結晶化温度の低減は原子移動促進による擬似結晶核の形成によると考えられる。
高城 祥吾   松尾 直人   山名 一成   部家 彰   高田 忠雄   横山 新   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2011年12月9日
部家 彰   野々村 勇希   木野 翔太   松尾 直人   天野 壮   宮本 修治   神田 一浩   望月 孝晏   都甲 薫   佐道 泰造   宮尾 正信   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2011年12月9日
小林 孝裕   松尾 直人   栃尾 貴之   大倉 健作   大村 泰久   横山 新   部家 彰   
電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C 2011年3月1日
1.7nmの窒化膜(SiN_x)を有するトンネリング誘電体TFT(Tunneling Dielectric Thin-Film Transistor:TDTFT)をボトムゲート構造で作製し,TDTFTと従来型TFT(Conv.TFT)のドレーン電流の温度依存性とその伝導機構について調査した.低温領域20〜300Kと高温領域293〜623Kにおける相互コンダクタンス(gm)の値をW/L=50μm/10μmのConv.TFTとTDTFTを用いI_d-V_g特性から算出した.20〜150Kの温度...
高城 祥吾   松尾 直人   山名 一成   部家 彰   高田 忠雄   坂本 憲児   横山 新   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2010年12月10日
本研究では,Si基板を用いて100nm程度のギャップを持つ電極を作製し,電極間に固定されたDNAの伝導特性,及び,n^-Si基板をゲート電極とした3端子トランジスタ特性について調べる.その結果,DNA両端を固定した電極をもつ試料のみで伝導を確認した.この伝導は電極間に固定化されたDNA本体を流れるキャリアが担っていると考えられるが,バンド伝導であるかホッピング伝導であるかは不明である.又,トランジスタ特性に関しては,ゲート電圧の負方向への増加に従い,電流値が増加する事からホール伝導である事...