研究者業績
研究キーワード
原子状水素アニール
,原子状水素
,グラフェンナノリボン
,触媒
,化学気相成長
,グラフェン
,2次元材料
,構造解析
,半導体薄膜
経歴
2008年4月
-
現在
兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授
2005年7月
-
2008年3月
兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教
2000年4月
-
2005年6月
石川県工業試験場 電子情報部 技師
学歴
-
2000年
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻
-
1995年
鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻
委員歴
2007年
-
現在
Cat-CVD研究会 実行委員
2016年
-
2023年
SSDM プログラム委員
論文
Naoto MATSUO   Akira HEYA   Kazushige YAMANA   Koji SUMITOMO   Tetsuo TABEI   
IEICE Transactions on Electronics E107.C(3) 76-79 2024年3月 [査読有り]
Akira Heya   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Yoshiaki Matsuo   Junichi Inamoto   Kazuhiro KANDA   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics 2023年11月 [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The effects of soft X-ray irradiation and atomic hydrogen annealing (AHA) on the reduction of graphene oxide (GO) to obtain graphene were investigated. To clarify the interaction between soft X-rays and G...
Akira Heya   Hideo Otsuka   Koji Sumitomo   
Journal of Photopolymer Science and Technology 36(4) 253-259 2023年6月 [査読有り][招待有り]
Akira Heya   Koji Sumitomo   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(4) 351-357 2022年12月 [査読有り]
Akira HEYA   Akinori Fujibuchi   Masahiro Hirata   Kazuhiro KANDA   Yoshiaki Matsuo   Junichi INAMOTO   Koji Sumitomo   
Japanese Journal of Applied Physics 62(SC) SC1028-SC1028 2022年12月 [査読有り]
<jats:title>Abstract</jats:title>
<jats:p>The reduction of graphene oxide (GO) through atomic hydrogen annealing (AHA) and soft X-ray irradiation is investigated using microwell substrates with μm-sized holes with and without Ni underlayers. The ...
MISC
吉水寛人   大嶋梓   山口真澄   部家彰   住友弘二   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
春山雄一   森本大貴   部家彰   住友弘二   豊田紀章   伊藤省吾   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
部家彰   住友弘二   新部正人   
マツダ財団研究報告書(科学技術振興関係) 35 2023年
岡田響   森川直人   森川直人   部家彰   井上尚三   
精密工学会大会学術講演会講演論文集 2023 2023年
部家彰   住友弘二   
電子情報通信学会技術研究報告(Web) 123(237(OME2023 43-50)) 2023年
書籍等出版物
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成)
技術情報協会 2013年5月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題)
情報機構 2011年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術)
CMC出版 2010年3月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置)
CMC出版 2008年10月
部家 彰(担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術)
情報機構 2007年8月
講演・口頭発表等
部家 彰   山田 和史   河本 直哉   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告. OME, 有機エレクトロニクス 2010年4月16日
エキシマレーザ・アニール法により形成したpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長に対する水素の効果を検討した.レーザ照射密度250mJ/cm^2ではディスク状結晶粒は観察されなかったが,300mJ/cm^2ではわずかに観察され,ショット数が増加してもディスク状結晶粒の面密度および,粒径は変化しなかった.水素はディスク状結晶粒の核形成,核成長を阻害した.双晶がディスク状結晶粒の核と仮定すると,水素により双晶の形成が阻害されるために,ディスク状結晶粒の核形成が阻害されたと考えられる.
部家 彰   長谷川 裕師   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告. OME, 有機エレクトロニクス 2010年4月16日
ペンタセン膜厚1,3,10,50nmの有機薄膜トランジスタ(OTFT)およびペンタセン縦方向評価試料を作製し,その電気特性のペンタセン膜厚依存性からキャリア伝導機構について検討した.膜厚3nm OTFTのソース・ドレイン電極間に20V印可した場合,ペンタセン膜厚方向とチャネル横方向の正味の電圧はそれぞれ16Vと2Vであり,電圧は主にチャネル横方向に印可されていた.On電流は膜厚3nmの0TFTの方が50mmのOTFTよりも高く,ペンタセン/SiO_2界面付近のポテンシャル分布計算から,3n...
部家 彰   山田 和史   河本 直哉   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2010年4月16日
エキシマレーザ・アニール法により形成したpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長に対する水素の効果を検討した.レーザ照射密度250mJ/cm^2ではディスク状結晶粒は観察されなかったが,300mJ/cm^2ではわずかに観察され,ショット数が増加してもディスク状結晶粒の面密度および,粒径は変化しなかった.水素はディスク状結晶粒の核形成,核成長を阻害した.双晶がディスク状結晶粒の核と仮定すると,水素により双晶の形成が阻害されるために,ディスク状結晶粒の核形成が阻害されたと考えられる.
部家 彰   長谷川 裕師   松尾 直人   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2010年4月16日
ペンタセン膜厚1,3,10,50nmの有機薄膜トランジスタ(OTFT)およびペンタセン縦方向評価試料を作製し,その電気特性のペンタセン膜厚依存性からキャリア伝導機構について検討した.膜厚3nm OTFTのソース・ドレイン電極間に20V印可した場合,ペンタセン膜厚方向とチャネル横方向の正味の電圧はそれぞれ16Vと2Vであり,電圧は主にチャネル横方向に印可されていた.On電流は膜厚3nmのOTFTの方が50nmのOTFTよりも高く,ペンタセン/S10_2界面付近のポテンシャル分布計算から,3n...
磯田 伸哉   松尾 直人   天野 壮   部家 彰   宮本 修治   望月 孝晏   
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 2009年11月27日
LPXを照射したa-Si膜を、ラマン分光法、分光エリプソメトリ、ESRを用いて解析した。LPX照射によりa-Si膜上部の屈折率、消衰係数、膜中のダングリングボンド数が変化していることが分かった。このことから擬似結晶核を形成するエンブリオの形成について議論する。また、全過程におけるLPX照射による低温結晶化についても擬似結晶核の生成と関連付けて議論する。