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研究者業績
研究者リスト
>>
山川 進二
編集
山川 進二
研究者氏名
山川 進二
ヤマカワ シンジ
URL
https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/sr-nanotechnology/index.html
所属
兵庫県立大学
部署
高度産業科学技術研究所
職名
助教
学位
博士(工学)(東京工業大学)
科研費研究者番号
90876252
J-Global ID
202001010541924789
研究キーワード
軟X線分析
,
フォトレジスト
,
EUVリソグラフィ
,
放射光
,
高分子合成
,
錯体触媒
研究分野
ナノテク・材料 / 光工学、光量子科学 / 放射光
ナノテク・材料 / 高分子化学 /
経歴
2020年4月
-
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教
2019年4月
-
2020年3月
東京工業大学 化学生命科学研究所 特任助教
学歴
2016年4月
-
2019年3月
東京工業大学大学院 物質理工学院 博士後期課程 応用化学系
2014年4月
-
2016年3月
関西大学大学院 理工学研究科 博士課程前期課程 化学・物質工学科
2010年4月
-
2014年3月
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科
委員歴
2021年
-
現在
フォトポリマー学会 ICPST組織委員会
受賞
2023年6月
フォトポリマー学会, フォトポリマー科学技術賞 論文賞
論文
1
2
3
>
The x-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-tone PAG bound resist
Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 2023年11月
Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography
Umi Fujimoto   Tetsuo Harada   Shinji Yamakawa   Takeo Watanabe   
Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 2023年9月
Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist
Atsunori Nakamoto   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 61-65 2022年12月
[査読有り]
Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement
Tomohito Kizu   Shinji Yamakawa   Takeo Watanabe   Seiji Yasui   Tomoyuki Shibagaki   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 55-59 2022年12月
[査読有り]
Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure
Yosuke Ohta   Atsushi Sekiguchi   Shinji Yamakawa   Tetsuo Harada   Takeo Watanabe   Hiroki Yamamoto   
Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 49-54 2022年12月
[査読有り]
MISC
レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討
中本敦啓   山川進二   原田哲男   渡邊健夫   
X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年
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担当経験のある科目(授業)
2021年9月
-
現在
材料放射光実験III (兵庫県立大学)
2021年9月
-
現在
放射光科学のフロンティア(オムニバス形式) (兵庫県立大学)
2021年9月
-
現在
先端科学を学ぶ(副専攻集中講義) (兵庫県立大学)
2020年10月
-
現在
機械・材料工学実験 (兵庫県立大学)
所属学協会
2023年
-
現在
日本放射光学会
2021年
-
現在
SPIE
2020年
-
現在
フォトポリマー学会
2014年
-
現在
高分子学会
共同研究・競争的資金等の研究課題
フォトレジスト薄膜中における化学組成分布がパターン線幅粗さに与える影響の解明
日本学術振興会: 科学研究費助成事業 若手研究山川 進二 
研究期間: 2021年4月 - 2024年3月
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産業財産権
WO2020-116037 : ポリブタジエン、ポリブタジエンの製造方法、ポリブタジエン組成物、タイヤ、及び樹脂部材
高野 重永 会田 昭二郎 小坂田 耕太郎 竹内 大介 山川 進二
特許第7090626号 : 重合触媒組成物、重合体の製造方法、重合体、ゴム組成物およびタイヤ
高野 重永 会田 昭二郎 小坂田 耕太郎 竹内 大介 山川 進二
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